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公开(公告)号:CN1267880A
公开(公告)日:2000-09-27
申请号:CN00104334.X
申请日:2000-03-17
Applicant: TDK株式会社
Inventor: 上釜健宏
Abstract: 一种磁头滑块、其制造方法以及一种磁盘装置,可通过缩短工作时彼此面对的记录媒体和磁头芯部分之间的距离实现高的表面记录密度。一个掩模形成在磁头滑块主体的空气轴承表面的磁头芯部分形成区域中。一层由类金刚石碳制成的保护膜覆盖空气轴承表面。掩模和掩模上的保护膜之后被去除。磁头芯部分和磁盘之间的距离比常规情况下要短,因此磁头芯部分可以接近磁盘,由此获得大的重放输出并可采用微弱的磁场将信息记录至磁盘。
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公开(公告)号:CN1224963C
公开(公告)日:2005-10-26
申请号:CN01140629.1
申请日:2001-09-19
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/4826 , H05K1/147 , Y10T29/49002 , Y10T29/49021 , Y10T29/49025 , Y10T29/49027 , Y10T29/4903 , Y10T29/49069 , Y10T29/4913 , Y10T29/49169 , Y10T29/49181 , Y10T29/49192
Abstract: 本发明涉及一种制造HAA的方法,其包括步骤:在一个悬臂上固定一个第一导线元件;将一个第二导线元件安装到至少一个致动臂上;将所述悬臂固定到所述的至少一个致动臂上;将固定在所述悬臂上的所述第一导线元件与安装在所述至少一个致动臂上的所述第二导线元件电路连接;之后,将带有至少一个磁头元件的磁头浮动块固定到所述悬臂上;以及将所述至少一个磁头元件与所述第一导线元件电路连接。
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公开(公告)号:CN1542741A
公开(公告)日:2004-11-03
申请号:CN200410006965.8
申请日:2004-03-01
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/042 , G11B5/6064
Abstract: 本发明涉及一种薄膜磁头中的介质相对表面的抛光方法。一种薄膜磁头1形成在支架2上,该薄膜磁头1包括再现磁头部11、记录磁头部12和通过激励而适于产生热量的加热器17。在激励加热器17或记录磁头部12的同时对薄膜磁头1的介质相对表面S进行抛光。
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