公开(公告)号：CN100411019C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510104938.9

申请日：2005-09-22

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 高井充 ,  服部一博 ,  诹访孝裕 ,  大川秀一

IPC: G11B5/82 ,  G11B5/62 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855

Abstract: 提供一种磁记录介质，在该磁记录介质中，以预定凹凸图案将磁记录层(5)设置在基片(1A)上，并用非磁性材料填充凹凸图案中的凹部分，在凹凸图案的凸部分上形成非磁性层(16)，所述非磁性层(16)由非磁性材料中的位于凹部分底面的非磁性材料形成，同时，使凸部分和凹部分的表面基本平坦化，并且所述非磁性层(16)的厚度等于或小于1nm。

公开(公告)号：CN100346397C

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200510065665.1

申请日：2005-03-03

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 诹访孝裕 ,  高井充 ,  服部一博 ,  大川秀一 ,  日比干晴

IPC: G11B5/82 ,  G11B5/012

CPC classification number: G11B5/855 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24488 ,  Y10T428/24537 ,  Y10T428/2457

Abstract: 一种磁记录介质，至少包括盘衬底(1)、以预定的凹凸图案形成于盘衬底(1)上的磁记录层(5)、以及形成在凹凸图案的凹入部分中的非磁性层(6)。由非磁性材料制成的凸起形状形成在磁记录层(5)或者非磁性层(6)上。每个凸起形状例如形成为山形，其上表面的宽度(W1或W2)小于磁记录层(5)的每个凸起部分的宽度W5，且小于非磁性层(6)形成其中的每个凹入部分的宽度W6。

公开(公告)号：CN101030387A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200710084232.X

申请日：2007-02-27

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 伊藤邦恭 ,  服部一博

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/855

Abstract: 提供一种可谋求在制造时提高生产率的信息记录介质制造方法。进行在加工对象体(10，基体材料)中的形成了凹凸图案(15)的凹凸图案形成面(保护层16的表面)上涂敷树脂材料(流动性材料)以形成树脂层(17，涂敷层)的树脂层形成处理(涂敷层形成处理)和对树脂层(17)摩擦抛光装置(30)中的抛光带(31，平坦化用构件)以使加工对象体(10)的表面平坦化的平坦化处理来制造信息记录介质。