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公开(公告)号：CN102542313A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201210002138.6
申请日：2012-01-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明提出了一种双通道光栅结构，并利用该双通道光栅结构具有能够在不同方向分别反射可见光和紫外光的光学特性，设计制作成了用于卡证等的防伪识别结构，该识别结构同时具有专家识别防伪和公众识别防伪的效果。同时本发明了还提出了基于上述识别结构的卡证的真伪识别方法。
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公开(公告)号：CN101930207B
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：CN201010238377.2
申请日：2010-07-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微光栅亚像素三维光学图像，由排列于平面上的像素阵列结构构成，含有多个视角的分视角图像信息，其特征在于：每一像素由多个亚像素构成，每一亚像素对应于一个视角在该像素处的图像，每一亚像素为一光栅状图像单元，光栅状图像的条纹取向对应于视角，条纹的周期代表颜色信息。其制作方法包括如下步骤：设计三维衍射光学图像数据；设计具有亚像素体视结构的模板图像；根据图像数据和模板，生成体像素图像；微缩光刻亚像素体视图像单元，得到由亚像素体视单元构成的三维衍射光学图像。本发明可以数字化地输出立体图像。
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公开(公告)号：CN102331687A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201110323729.9
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种步进式光学加工系统和光学加工方法，该系统包括加工平台、光学头、中央控制系统和位置补偿系统，其中位置补偿系统包括空间光调制器、位置检测系统和图形控制器，所述空间光调制器具有位置补偿区，该空间光调制器上显示的加工图形可以在该位置补偿区中偏移，通过加工图形的偏移来补偿由机械运动产生的位置误差，提高了加工的精度和效率。本发明还提供了一种使用上述光学加工系统的光学加工方法。
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公开(公告)号：CN101976020A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010503788.X
申请日：2010-10-12
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。
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公开(公告)号：CN101943859A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010224532.5
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法，该装置包括传输装置、涂布装置、预固化装置、压印装置和强固化装置，该涂布装置将紫外光胶均匀的涂布于由传输装置传输的待压印材料上，经预固化装置流平和半固化之后，送至压印装置进行压印，最后通过强固化装置硬化成型。相对于现有的纳米压印技术，本发明的压印装置具有更高的生产效率和良率。本发明还揭示了一种利用上述装置实现卷对卷紫外纳米压印的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101016634B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200610155974.2
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。
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公开(公告)号：CN100578289C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN100552538C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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公开(公告)号：CN101546004A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031267.6
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。
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公开(公告)号：CN212391694U
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201821788646.0
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种电致变色显示面板及电子纸，该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列层和第二基板，所述电致变色像素阵列层包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层以及第二电极。该电致变色显示面板及电子纸将黑色电致变色像素层设置在第一电极和第二电极之间形成若干独立的电致变色单元，再将若干电致变色单元设置在第一基板和第二基板之间。该电致变色显示面板及电子纸以黑色电致变色像素层形成电致变色单元，能实现黑色、灰色和白色显示，且结构简单，易于制备，同时具有较佳的显示效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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