公开(公告)号：CN110010520A

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201811464878.5

申请日：2018-12-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本田拓巳 ,  山下浩司 ,  田原真二 ,  百武宏展

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/30

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。抑制基板从支承槽脱落。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和处理槽。基板保持部保持多个基板。处理槽积存处理液。另外，基板保持部具备支承体、升降机构以及限制部。支承体具有多个支承槽，从下方将立起状态的多个基板分别支承于多个支承槽中。升降机构使支承体在处理槽的上方的待机位置与处理槽的内部的处理位置之间升降。限制部与支承体一起利用升降机构升降，限制基板相对于支承体向上方移动。

公开(公告)号：CN108155115A

公开(公告)日：2018-06-12

申请号：CN201711247114.6

申请日：2017-12-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 百武宏展

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/67017

Abstract: 提供一种减少对基板的处理的不均的基板液处理装置和基板液处理方法。实施方式所涉及的基板液处理装置具备载置部、液处理部、搬送部以及旋转部。载置部载置从外部搬入的基板。液处理部通过使基板以基板的板面与水平方向正交的姿势浸在处理液中来对基板进行处理。搬送部在载置部与液处理部之间搬送基板。旋转部使利用液处理部进行了第一处理的基板以与基板的板面垂直的轴为中心进行旋转，使基板旋转为与进行第一处理时的朝向不同的朝向。另外，搬送部将利用液处理部进行了第一处理的基板从液处理部搬送到旋转部，将通过旋转部来进行了旋转的基板从旋转部搬送到液处理部。另外，液处理使通过旋转部来进行了旋转的基板浸在处理液中来进行第二处理。

公开(公告)号：CN216597515U

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN202122711450.X

申请日：2021-11-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 百武宏展 ,  木村裕二 ,  大津孝彦

IPC: H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种基片处理装置，使在基片形成的孔的在深度方向上的蚀刻量的均匀性提高。本实用新型的一个方式的基片处理装置包括处理槽、外槽、第一气体供给部和第二气体供给部。处理槽将基片浸渍于处理液中。外槽包围处理槽的周围，接受从处理槽溢出的处理液。第一气体供给部对储存在处理槽内的处理液供给不活泼性气体。第二气体供给部从配置于外槽的内侧的开口部向外槽内供给不活泼性气体。