公开(公告)号：CN111684569B

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN201980012129.5

申请日：2019-02-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻田博一 ,  梶原英树 ,  永金拓 ,  水篠真一

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/00 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40

Abstract: 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。

公开(公告)号：CN109994408B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN201910346132.2

申请日：2015-07-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 笹川典彦 ,  稻田博一 ,  浜田雅仁

IPC: H01L21/67 ,  B01F23/40 ,  B01F25/00 ,  B01F27/05 ,  B01F35/00 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种药液排出机构，在用于排出粘度较高的药液的药液排出机构中，能够使该药液的排液路径所占的高度变小。该药液排出机构包括：储存部，其具有用于储存药液的储存空间；稀释液供给口，其开口于储存空间，以便供给用于使药液的粘度降低的稀释液；涡流形成部，其用于向储存空间供给流体而使稀释液和药液形成涡流，以便对稀释液和药液进行搅拌；以及排液口，其通过供给稀释液来使搅拌完成后的稀释液和药液流入到该排液口而自储存空间排出。采用这样的结构，能够使自排液口排出的废液的粘度降低，从而不必使与该排液口相连接的排液路径相对于水平面较大地倾斜。

公开(公告)号：CN115298801A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202180021928.6

申请日：2021-03-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 新村聪 ,  高柳康治 ,  柴崎健太 ,  稻田博一

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304

Abstract: 一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中，在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。

公开(公告)号：CN115248530A

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202210410785.4

申请日：2022-04-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平尾刚 ,  土屋胜裕 ,  稻田博一

IPC: G03F7/16

Abstract: 本发明涉及容器、基板处理装置以及基板处理方法。在区分使用多个种类的处理液地对基板进行处理时，减轻处理的工夫以及伴随处理的作业的工夫。容器构成为具备：贮存空间形成部，其在内部形成有对用于处理基板的处理液进行贮存的贮存空间；所述处理液的喷出口，其设于所述贮存空间形成部；以及进入路径形成部，其设于所述贮存空间形成部，以形成能够使进入部进入该贮存空间形成部的内部的进入路径，该进入部位于所述贮存空间形成部的内部并对所述贮存空间进行加压，以使所述处理液从所述喷出口喷出。

公开(公告)号：CN108695212A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810319692.4

申请日：2018-04-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 宫本哲嗣 ,  稻田博一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种基片处理装置。该基片处理装置的液处理单元(U1)包括：保持晶片(W)的旋转卡盘(61)；使旋转卡盘(61)旋转的旋转驱动部(64)；对由旋转驱动部(64)的驱动而旋转的旋转卡盘(61)所保持的晶片(W)供给涂敷液的涂敷液供给喷嘴(62)；回收从晶片(W)的与被供给涂敷液的面(表面(W1))相反一侧的面即背面(W2)落下的涂敷液的杯体基座(65)；和配置在背面(W2)与杯体基座(65)之间，用于收集由于对旋转的晶片W供给涂敷液而产生的线状物的收集板(30)。由此，能够抑制在对旋转的基片供给处理液时产生的线状物堆积在回收部。

公开(公告)号：CN107104065A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201710087455.5

申请日：2017-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原正幸 ,  安藤了至 ,  正木洋一 ,  稻田博一

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01L21/67063 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/3151 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种在通过共用的排气通路对产生包含附着成分的气氛的多个基板处理部的气氛进行排气时，能够可靠地检测每个基板处理部的独立排气通路的异常的技术。在利用排气能力设备通过共用排气通路(60)对在晶片(W)进行抗蚀剂涂敷的多个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)排气时，测定每个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)的独立排气管(50A～50D)的排气压力与共用排气通路(60)的排气压力，比较各测定值与对应的容许压力范围。因此，能够可靠地检测出独立排气管(50A～50D)中的附着物的堵塞等的异常。

公开(公告)号：CN101581885A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200910128637.8

申请日：2009-03-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 北野高广 ,  小畑耕一 ,  稻田博一 ,  绪方信博

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置。该涂敷装置具备驱动部(12)，使基板保持部(11)绕铅直轴旋转，以使供给到基板(W)的表面中央部的涂敷液借助离心力扩散到基板的表面周缘部。另外，该装置具备振颤抑制机构(50)，该振颤抑制机构(50)具有分别以与基板的背面相对置的方式设置的排出口(50a)和抽吸口(50b)，通过从排出口排出气体并且向抽吸口抽吸气体，来抑制旋转过程中的基板的振颤。

公开(公告)号：CN101064237A

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200710085551.2

申请日：2002-12-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻田博一 ,  木下尚文

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，具备：设置在输送机构上、用于把持处理液供应喷嘴的把持卡盘，与把持卡盘邻接设置的定位销，设置在多个处理液喷嘴的每一个上、使设置在上述输送机构上的把持卡盘可在与供应管路和用于排出处理液的喷嘴主体连接的块状的喷头的上表面上卡合、脱离的把持用凹部，以及与多个处理液供应喷嘴的把持用凹部邻接地设置的定位用凹部，在把持卡盘由待机保持机构卡合在把持用凹部上时，定位销和定位用凹部嵌合，输送机构因定位销和定位用凹部嵌合而不改变处理液供应喷嘴的姿势地保持规定角度，并且使处理液供应喷嘴移动到被处理基板的中心。

公开(公告)号：CN216631347U

公开(公告)日：2022-05-31

申请号：CN202122398639.8

申请日：2021-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 柴崎健太 ,  稻田博一 ,  新村聪 ,  高柳康治 ,  矢田健二 ,  关慎一 ,  寺本昭宏

IPC: B05B15/555 ,  B05B15/55 ,  H01L21/67

Abstract: 本实用新型涉及液处理装置，其使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。

公开(公告)号：CN216389267U

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN202122105214.3

申请日：2021-09-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 新村聪 ,  川上浩平 ,  稻田博一 ,  高柳康治

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种喷嘴待机装置以及液处理装置，喷嘴在喷嘴收容部待机并在顶端部吸入溶剂而形成液层时，即使喷出的处理液高粘度也能在顶端部形成溶剂的液层。包括：喷嘴收容部，包含以包围喷嘴顶端部的方式形成的内周面并与喷嘴的喷出口相对地形成排出口；溶剂喷出口，在喷嘴收容部内开口，使喷出的溶剂沿喷嘴收容部的内周面引导而自排出口排出，喷嘴收容部在排出口的上方侧在溶剂呈涡流下落的部位具有缩径部，缩径部包括相对于喷嘴收容部的中心线的角度不同的第1内周面和第2内周面，在以包含喷嘴收容部的中心线的方式沿其剖切的剖面中，沿相对的各第1内周面延伸的两直线交点位于比当喷嘴的顶端部配置于缩径部时的喷嘴的喷出口靠上方。