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公开(公告)号：CN107731709A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710679783.4
申请日：2017-08-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0258 , B05C11/08 , B05C11/1002 , B08B3/08 , B08B3/10 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/0273 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , B08B3/022 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆(W)的表面高度靠上方的位置在整周上形成有两根槽部(23)。若气流沿着包围构件(2)流动，则气流在槽部(23)中形成涡流，滞留在槽部(23)内，因此，能够捕捉雾，能够抑制雾向杯体(1)的外部流出。因而，能够抑制雾向晶圆(W)的附着。
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公开(公告)号：CN101581885A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910128637.8
申请日：2009-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715 , H01L21/68742 , H01L21/68785
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置。该涂敷装置具备驱动部(12)，使基板保持部(11)绕铅直轴旋转，以使供给到基板(W)的表面中央部的涂敷液借助离心力扩散到基板的表面周缘部。另外，该装置具备振颤抑制机构(50)，该振颤抑制机构(50)具有分别以与基板的背面相对置的方式设置的排出口(50a)和抽吸口(50b)，通过从排出口排出气体并且向抽吸口抽吸气体，来抑制旋转过程中的基板的振颤。
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公开(公告)号：CN107731709B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201710679783.4
申请日：2017-08-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆(W)的表面高度靠上方的位置在整周上形成有两根槽部(23)。若气流沿着包围构件(2)流动，则气流在槽部(23)中形成涡流，滞留在槽部(23)内，因此，能够捕捉雾，能够抑制雾向杯体(1)的外部流出。因而，能够抑制雾向晶圆(W)的附着。
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公开(公告)号：CN101581885B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN200910128637.8
申请日：2009-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715 , H01L21/68742 , H01L21/68785
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置。该涂敷装置具备驱动部(12)，使基板保持部(11)绕铅直轴旋转，以使供给到基板(W)的表面中央部的涂敷液借助离心力扩散到基板的表面周缘部。另外，该装置具备振颤抑制机构(50)，该振颤抑制机构(50)具有分别以与基板的背面相对置的方式设置的排出口(50a)和抽吸口(50b)，通过从排出口排出气体并且向抽吸口抽吸气体，来抑制旋转过程中的基板的振颤。
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