半导体装置
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110120389B

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN201910098499.7

    申请日:2019-01-31

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置。本说明书提供一种在收容有半导体元件的半导体模块与冷却器的层叠体由弹簧在层叠方向上加压的半导体装置中利用一个弹簧来缓和向层叠体的端面的中央的压力集中的技术。半导体装置具备层叠体、抵接板及弹簧。抵接板在半导体模块与冷却器的层叠方向上与层叠体相接。弹簧与抵接板相接,经由抵接板而对层叠体在层叠方向上加压。弹簧与抵接板的与层叠方向正交的方向上的中央部相接。在抵接板的面向层叠体的一侧的中央部设置有凹陷。在半导体装置中,抵接板的中央部不与层叠体相接,中央部的两侧对层叠体加压。通过在中央部的两侧对层叠体加压,压力向层叠体的端面的中央部的偏倚得到缓和。

    半导体器件及其制造方法
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1967869A

    公开(公告)日:2007-05-23

    申请号:CN200610165662.X

    申请日:2004-09-01

    CPC classification number: H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 一种半导体器件及制造方法,是防止在周边区域中发生的半导体器件的热破坏,实现半导体器件的高耐压化。是一种具有已形成了半导体开关元件组的中心区域(M),和已形成了把该中心区域围起来的保护环(38)组的周边区域N的半导体器件,在最外周上形成的半导体开关元件的体区域(34),和在最内周形成的保护环(38)重叠起来地形成,已连接到半导体开关元件组的栅电极(35)上的栅布线(48)中间存在着绝缘层(46)地与体区域(34)和保护环(38的重叠区域(39)对向,上述重叠区域(39)的宽度,是体区域(34)与保护环(38中的深的一方的深度的1/3以上。

    半导体器件及其制造方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1591897A

    公开(公告)日:2005-03-09

    申请号:CN200410074196.5

    申请日:2004-09-01

    CPC classification number: H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 一种半导体器件及制造方法,是防止在周边区域中发生的半导体器件的热破坏,实现半导体器件的高耐压化。是一种具有已形成了半导体开关元件组的中心区域(M),和已形成了把该中心区域围起来的保护环(38)组的周边区域N的半导体器件,在最外周上形成的半导体开关元件的体区域(34),和在最内周形成的保护环(38)重叠起来地形成,已连接到半导体开关元件组的栅电极(35)上的栅布线(48)中间存在着绝缘层(46)地与体区域(34)和保护环(38)的重复区域(39)对向,上述重复区域(39)的宽度,是体区域(34)与保护环(38)中的深的一方的深度的1/3以上。

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