公开(公告)号：CN112979458A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011462505.1

申请日：2020-12-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  渡边朝美 ,  片山和弘

IPC: C07C59/68 ,  C07C65/21 ,  C07C59/66 ,  C07C59/90 ,  C07C51/41 ,  C07C381/12 ,  C07D333/74 ,  C07C69/92 ,  C07C69/76 ,  C07C309/75 ,  C07C69/757 ,  C07D335/02 ,  C07D307/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。

公开(公告)号：CN109324478A

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201810854838.5

申请日：2018-07-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  谷口良辅 ,  片山和弘

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案形成方法。包含经由连接基键合至聚合物骨架的具有在侧链端的高度稠合的高金刚烷骨架的单元的聚合物具有适当的溶剂溶解度并且能够抑制酸扩散。包含所述聚合物和特定的光致产酸剂的抗蚀剂组合物显示出良好的DOF边限、CD均匀性和在PPD期间最小的CD改变，并且在精确微图案化方面相当有效。