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公开(公告)号：CN101079271A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200710137983.3
申请日：2007-03-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/82 , G11B5/667 , G11B5/72 , G11B5/7315 , G11B5/7325 , G11B5/855
Abstract: 一种磁记录介质，包括：环形基底(11)，其表面分成位于外圆周边缘与内圆周边缘之间的中央部分的记录区域(21)、位于分别从外和内圆周边缘开始的100μm或更大和2,000μm或更小的范围之内的边缘区域(23、25)，以及分别位于各边缘区域(23、25)和记录区域(21)之间的相邻区域(22、24)，基底(11)上的磁性膜(12)，以及磁性膜(12)上的保护膜(13)，其中边缘区域(23、25)的磁性膜(12)比相邻区域(22、24)的磁性膜薄，以及边缘区域(23、25)的保护膜(13)的至少一部分比相邻区域(22、24)的保护膜厚。
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公开(公告)号：CN101042880A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710089484.1
申请日：2007-03-23
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 提供了一种制造构图介质的方法，所述构图介质具有基底(51)和在所述基底上的磁记录层，所述磁记录层包括凸起的磁图形(52)和填充所述磁图形(52)之间的凹陷的非磁性材料。该方法包括以下步骤：沉积第一非磁性材料(55)，以填充所述磁图形(52)之间的凹陷；进行对所述第一非磁性材料(55)的表面改性；在所述第一非磁性材料(55)上沉积第二非磁性材料(56)；以及回蚀刻所述第二和第一非磁性材料(55，56)。
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公开(公告)号：CN101038752A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710089302.0
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/82 , B82Y10/00 , G11B5/59655 , G11B5/743 , G11B5/855
Abstract: 图案化介质具有基片，以及在基片上包括凸出的磁性图案的磁性记录层，以及填充在凸出的磁性图案之间的非磁性材料。在图案化介质中，深度Db和深度Da存在关系深度Da大于深度Db，其中Db定义为从磁性图案表面到填充在交叉磁轨方向或沿着磁轨方向上相邻的磁性图案之间的第一中间部中的非磁性材料表面的深度，且Da定义为从磁性图案表面到填充在由四个磁性图案所环绕的部件中的第二中间部中的非磁性材料表面的深度。
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公开(公告)号：CN1956064A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200610137583.8
申请日：2006-10-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C23F4/00 , B82Y10/00 , C23C2/02 , C23C2/26 , C23C4/02 , C23C4/18 , G03F7/0046 , G11B5/74 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , H01F41/34
Abstract: 根据一个实施例，一种形成图形的方法，包括在衬层材料(2)上形成抗蚀剂(3)，在抗蚀剂(3)上按压具有突起和凹口的图形的压模(4)，其突起的侧壁逐渐变细，以形成具有突起和凹口的图形的图形化的抗蚀剂(3)，其突起的侧壁逐渐变细，在图形化的抗蚀剂(3)上形成保护膜(5)，进行各向异性蚀刻以将保护膜(5)留在图形化的抗蚀剂(3)的锥形侧壁上，利用保护膜(5)作掩模蚀刻残留在图形化的抗蚀剂(3)的凹口中的抗蚀剂残留物，以及利用保护膜(5)和图形化的抗蚀剂(3)作为掩模，蚀刻衬层材料(2)。
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公开(公告)号：CN1892827A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610094256.9
申请日：2006-06-28
CPC classification number: G11B5/7315
Abstract: 一种用于磁记录介质的基底(11)，包括与记录磁道相应的圆周形凸起和与记录磁道之间的沟槽相应的圆周形凹陷，其中所述基底(11)满足以下条件中的至少一项：(a)所述凹陷表面的表面能小于所述凸起表面的表面能；(b)利用可热分解或可热变形的物质改性所述凹陷的表面；(c)所述凹陷表面的表面粗糙度小于所述凸起表面的表面粗糙度；(d)结晶取向在所述凹陷表面上比在所述凸起表面上更加受干扰；(e)利用引起与磁性材料反应或扩散到所述磁性材料中的物质来改性所述凹陷的表面；以及(f)利用可溶于溶剂中的物质或利用可变形物质改性所述凹陷的表面。
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公开(公告)号：CN1822113A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510138135.5
申请日：2005-12-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B82Y10/00 , G11B5/59688 , G11B5/743 , G11B5/865
Abstract: 一种磁记录介质，包括：伺服区，该区具有前同步信号区，在前同步信号区中制作有用于时钟同步的磁性部分和非磁性部分；以及数据区，用户数据可写入其中。磁性部分在前同步信号区中的占用率与非磁性部分不同。
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公开(公告)号：CN1746976A
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN200510089411.3
申请日：2005-08-05
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/59633
Abstract: 一种磁记录和再现装置，具有磁记录介质(1)，该磁记录介质(1)具有由同心磁性图案形成的离散轨道(23)，以及具有读/写头的磁头滑块(76)。当磁头滑块(76)位于磁记录介质的最外记录区上时，从磁记录介质(1)的旋转中心看磁头滑块(76)的视角为5°或更大。
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公开(公告)号：CN103021430A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210224499.5
申请日：2012-06-29
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11B7/135
CPC classification number: G11B7/005 , G11B7/0937
Abstract: 本发明公开了光盘记录和再现装置以及方法。在记录和再现装置中，光盘（2）在旋转方向（R）上旋转，并且光学系统将激光束聚焦在光盘（1）上以在光盘（2）上形成束斑（20）。光学系统设置有扫描器，扫描器以束斑（20）跟随沿与旋转方向（R）相交的第一方向（22）的第一扫描轨迹和沿与第一方向（22）不同的第二方向（24）的第二扫描轨迹的方式沿光盘（2）的径向偏转激光束。在光盘（2）上形成并布置沿第一扫描轨迹具有一系列记录凹坑（16）的第一数据轨道。
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公开(公告)号：CN100487793C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200710091357.5
申请日：2007-03-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/59655 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/855
Abstract: 一种磁记录介质包括：数据区域，其中将要记录数据；伺服区域，其中记录了用于定位记录/再现磁头的位置信号，该伺服区域设有地址部分，其中记录了地址信息，其中该地址部分具有由多列记录部分和设置在所述多个列之间的非记录部分配置的磁图案，所述多个列设置为在与记录磁道方向相交的方向上相互平行。
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公开(公告)号：CN100446089C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200610107756.1
申请日：2006-07-25
Abstract: 一种用于具有离散磁道的磁记录介质的被构图基底(11)，包括其上加工的凸起(11a)和凹陷(11b)图形，以及在每一个凹陷(11b)处形成的纹理结构。
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