公开(公告)号：CN102323724B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110268975.9

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101644900B

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN200810173396.4

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101436000B

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN200810173386.0

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101644899A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200810173395.X

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101436002A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810173388.X

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN1830064A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200480021856.1

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN1723541A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200380105423.X

申请日：2003-12-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 根井正洋 ,  小林直行 ,  荒井大 ,  大和壮一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/707 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。