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公开(公告)号：CN102012641B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201010240704.8
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101644899B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN200810173395.X
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101436001A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173387.5
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN104122760B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102323724A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110268975.9
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101436000A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173386.0
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN100452293C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480021856.1
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102043350A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201110022027.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102043350B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201110022027.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101436001B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200810173387.5
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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