公开(公告)号：CN103659605A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310384344.2

申请日：2013-08-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 筱崎弘行

IPC: B24B53/017

CPC classification number: B24B49/18 ,  B24B49/16 ,  B24B53/017 ,  B24B37/00

Abstract: 本发明提供一种修整的监视方法以及研磨装置，其能够将修整器对研磨垫的作功数值化并在研磨垫的修整中监视研磨垫的修整。所述方法是，一边使支承研磨垫(22)的研磨台(12)旋转，并使修整器(50)沿研磨垫(22)的半径方向摆动，一边将修整器(50)按压于旋转的研磨垫(22)而修整研磨垫(22)，在研磨垫(22)的修整中，计算出表示作用在修整器(50)与研磨垫(22)之间的摩擦力与按压力之比的作功系数(Z)，并基于作功系数(Z)来监视研磨垫(22)的修整。

公开(公告)号：CN114423546B

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202080063625.6

申请日：2020-07-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 筱崎弘行

IPC: B22F12/53 ,  B22F12/45 ,  B22F12/90 ,  B22F10/28 ,  B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 本申请的一个目的在于提供一种抑制在基于AM法的造型中产生过剩的金属蒸气的技术。另外，本申请的一个目的在于提供一种尽可能减少造型后的机械加工或不需要造型后的机械加工的技术。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM装置，该AM装置具有用于对造型对象物的轮廓进行造型的第一DED喷嘴和用于对所述轮廓的内侧进行造型的第二DED喷嘴。

公开(公告)号：CN114423546A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202080063625.6

申请日：2020-07-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 筱崎弘行

IPC: B22F12/53 ,  B22F12/45 ,  B22F12/90 ,  B22F10/28 ,  B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 本申请的一个目的在于提供一种抑制在基于AM法的造型中产生过剩的金属蒸气的技术。另外，本申请的一个目的在于提供一种尽可能减少造型后的机械加工或不需要造型后的机械加工的技术。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM装置，该AM装置具有用于对造型对象物的轮廓进行造型的第一DED喷嘴和用于对所述轮廓的内侧进行造型的第二DED喷嘴。

公开(公告)号：CN114340822A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080062182.9

申请日：2020-08-25

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 筱崎弘行

IPC: B22F12/88 ,  B22F12/90 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02

Abstract: 提供一种在AM装置中用于在抑制烟尘、溅射的产生的同时缩短造型时间的技术。根据一个实施方式，提出了一种用于对决定AM装置中的造型条件的情况进行机器学习的机器学习装置。该机器学习装置取得包括与造型中的造型有关的物理量和所述造型条件的状态变量，基于所述状态变量，进行用于决定所述造型条件的学习模型的学习及所述造型条件的决定。

公开(公告)号：CN105856057B

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201610060343.6

申请日：2016-01-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 筱崎弘行

IPC: B24B37/00 ,  B24B53/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种连结机构、基板研磨装置、旋转中心定位方法、最大按压负荷确定方法及记录介质。该连结机构可使旋转体追随研磨面的起伏而不会使旋转体产生抖动及振动，并且，即便在小于旋转体的重力的负荷区域内也可精密地控制旋转体对研磨面的负荷。连结机构包括配置在驱动轴与旋转体之间的上侧球面轴承及下侧球面轴承。上侧球面轴承具有相互接触的第1凹状接触面和第2凸状接触面，下侧球面轴承具有相互接触的第3凹状接触面和第4凸状接触面。第1凹状接触面及第2凸状接触面的位置较第3凹状接触面及第4凸状接触面靠上方。第1凹状接触面、第2凸状接触面、第3凹状接触面及第4凸状接触面呈同心状配置。

公开(公告)号：CN103786091B

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201310513098.6

申请日：2013-10-25

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  小林贤一 ,  本坊光朗 ,  今村听 ,  董博宇 ,  筱崎弘行

IPC: B24B37/07 ,  B24B37/34

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  B24B37/345 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67219

Abstract: 一种研磨装置，具有：研磨台，其具有研磨面；顶环(31A)，其在研磨台上方的研磨位置、研磨台侧方位置以及清洗位置之间移动自如，且由保持环(40)围绕基板的外周部而将该基板保持在顶环的下表面并向研磨面按压；以及清洗部(100)，其位于清洗位置并向旋转中的顶环(31A)的下表面喷射清洗液从而一起清洗由该顶环(31A)所保持的基板(W)与顶环(31A)的下表面。采用本发明，能高效地一起清洗由顶环的下表面所保持的基板与该顶环的下表面，并可使研磨性能稳定化，使清洗组件的清洗性能稳定化。

公开(公告)号：CN101599423B

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN200910141394.1

申请日：2009-06-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  胜冈诚司 ,  松田尚起 ,  国泽淳次 ,  小林贤一 ,  外崎宏 ,  筱崎弘行 ,  锅谷治 ,  森泽伸哉 ,  小川贵弘 ,  牧野夏木

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  B24B29/02 ,  B08B3/02 ,  B05B3/12 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

Abstract: 一种基板处理装置、基板处理方法、基板把持机构以及基板把持方法。具备：对基板(W)进行研磨的研磨部(3)；搬运基板(W)的搬运机构(5、6)；以及对研磨后的基板(W)进行清洗、干燥的清洗部(4)。清洗部(4)具有用于清洗多个基板的多个清洗线。该清洗线具备多个清洗模块(201A、201B、202A、202B)，通过多个搬运机器人(209、210)来搬运基板。

公开(公告)号：CN101599423A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910141394.1

申请日：2009-06-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  胜冈诚司 ,  松田尚起 ,  国泽淳次 ,  小林贤一 ,  外崎宏 ,  筱崎弘行 ,  锅谷治 ,  森泽伸哉 ,  小川贵弘 ,  牧野夏木

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  B24B29/02 ,  B08B3/02 ,  B05B3/12 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

Abstract: 一种基板处理装置、基板处理方法、基板把持机构以及基板把持方法。具备：对基板(W)进行研磨的研磨部(3)；搬运基板(W)的搬运机构(5、6)；以及对研磨后的基板(W)进行清洗、干燥的清洗部(4)。清洗部(4)具有用于清洗多个基板的多个清洗线。该清洗线具备多个清洗模块(201A、201B、202A、202B)，通过多个搬运机器人(209、210)来搬运基板。

公开(公告)号：CN302716571S

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201330368613.7

申请日：2013-07-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 筱崎弘行

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨盘。2.本外观设计产品是用于半导体制造用CMP装置的研磨盘。3.本外观设计为针对同一产品的3项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1立体图为最能表明设计要点的视图。6.设计1～设计3中的各后视图因各自的主视图相同而被省略，各左视图因与各自的右视图相同而被省略。

公开(公告)号：CN302456385S

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201330046129.2

申请日：2013-02-06

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 筱崎弘行

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为半导体研磨盘清洗用刷。2.本外观设计产品的用途是，用于对研磨半导体材料的研磨盘的平板接触面进行清洗。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.后视图因与主视图相同所以省略；左视图因与右视图相同所以省略。6.各视图中在刷部示出的多个圆柱形是将多根刷毛聚在一起并简化示出的形状。