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公开(公告)号：CN106475557A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610664273.5
申请日：2016-08-12
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B22F3/1055 , B22F1/0059 , B22F3/1021 , B22F2003/1056 , B22F2003/1057 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B33Y80/00 , Y02P10/295 , B22F2203/03 , B22F3/003
Abstract: 本发明公开了三维形成装置、三维形成方法以及三维形成物。其目的在于获得能够使用微小粒径的金属粉末且在获得较高的生产率的同时也以较高的精度实现微小形状的形成的三维形成物及该三维形成物的形成方法。三维形成装置通过层叠使用包含金属粉末、粘结剂以及溶剂的被烧结材料而成的层来形成三维形成物，所述三维形成装置具备：材料供给单元，将所述被烧结材料向规定的材料供给区域供给；第一加热单元，加热所述规定的材料供给区域；第二加热单元，加热从所述材料供给单元供给至所述规定的材料供给区域的所述被烧结材料；以及能量照射单元，供给烧结所述金属粉末的能量。
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公开(公告)号：CN1591112B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200410057036.X
申请日：2004-08-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: G02F1/1333 , G02F1/133 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133555
Abstract: 在电光装置用基板或电光装置中，通过变更基底层的图形形状，使基底层难于剥离，由此抑制反射膜的不良的发生，提高产品的合格率。本发明的电光装置用基板的特征在于：在基板上形成相互叠层配置的反射膜(213)和基底层(212)，排列包含反射膜和基底层的一部分的多个像素区域，在每个像素区域设置不形成反射膜的透过开口部(213a)和配置在与该透过开口部平面看重叠的位置上的不形成基底层的基底开口部(212a)，在相邻的上述像素区域间，基底开口部相互连续。
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公开(公告)号：CN100468162C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200610146729.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板，其特征在于，具有：基板；在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层；在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层，多个凹部或凸部，被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板，由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此，在感光性材料的显影处理时，就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。
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公开(公告)号：CN1307472C
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN02123147.8
申请日：2002-06-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G03F7/00 , G02B5/10
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133553
Abstract: 本发明提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的掩模、使用它的附有光反射膜的衬底、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的光电器件，以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的衬底：以比点区数少的点数为一个单位形成透光部或不透光部，并且将其在该单位内无规则地排列，同时使用含有多个该单位的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。
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公开(公告)号：CN1296775C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200310100065.5
申请日：2003-10-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F7/20 , G02F1/1335
Abstract: 采用掩模对在基板上形成的感光性树脂进行曝光。该曝光中，通过适当设定掩模的透光部大小、和曝光间隙，将感光性树脂表面上的曝光强度分布构成为沿着其表面呈曲线状增减变化，通过用该曝光强度分布进行了曝光之后进行显影，形成具有表面凹凸形状的树脂层。之后，在该树脂层上形成由金属薄膜等构成的反射层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1291268C
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN03110403.7
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02F1/133553 , G02B5/08
Abstract: 本发明提供一种用以制造干涉条纹产生少的光反射膜的掩模、用该掩模形成的附光反射膜的基片、光反射膜的制造方法、设有干涉条纹产生少的光反射膜的光学显示装置、以及设有干涉条纹产生少的光反射膜的电器。其解决手段是采用透光部分或不透光部分由随机函数分配的、在平面上随机配置的掩模，制作在基体材料上形成的多个凸部或凹部在平面方向上随机配置的光反射膜。
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公开(公告)号：CN1576996A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062394.X
申请日：2004-07-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133514 , G02F2001/136222 , G02F2203/09
Abstract: 提供一种半透射反射型的电光装置中可以容易地分别调整反射型显示以及透射型显示的色显示特性的滤色器基板、半透射反射基板、滤色器基板的制造方法、电光装置以及电子设备。该滤色器基板20’具有基板21、设置在基板21上的树脂层22、设置在树脂层22上的具有反射部26b以及透射部26b的反射层23、以及设置在反射层23上的着色层25。在对应于树脂层22的至少一部分的区域上，以与该透射部26b对应设置的着色层25相同的颜色进行着色。
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公开(公告)号：CN1427284A
公开(公告)日：2003-07-02
申请号：CN02154087.X
申请日：2002-12-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G09F9/35
CPC classification number: G02F1/133512 , G02F2201/48 , G02F2203/02
Abstract: 在液晶装置等的基板结构中，在多个显示用点与点间区域之间，抑制在表面形成凹凸。另外，确保遮光层与由该层包围的层例如着色层之间的平坦性。是具有形成多个显示用点D的基材1、设置在基材1上的基底层4、设置在基底层4上的发射层2和设置在发射层2上的着色层3r、g、b。基底层4设置在与显示用点D对应的区域，不设置在多个显示用点D间的区域。在该点D间区域形成凹陷，遮光层3k填入到该凹陷中，所以，遮光层3k与着色层3r、g、b成为平坦的。
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公开(公告)号：CN114250014A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111109610.1
申请日：2021-09-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: C09D17/00 , C09D11/32 , C08F212/08 , C08F228/02 , C08F220/06 , C08F220/14 , C08F220/18
Abstract: 本申请的目的在于提供能够使固化的色料容易再分散、能够提高干燥再喷出时的稳定性的分散液、喷墨记录用油墨组合物及分散树脂。分散液包含水、色料和分散该色料的分散树脂，所述分散树脂具有：包含疏水性单体的构成单元A、包含亲水性丙烯酸单体的构成单元B和包含具有磺酸基的亲水性乙烯基单体的构成单元C，所述分散树脂的重均分子量是10000～100000，相对于所述分散树脂的总量，所述构成单元A的含量是60mol％以上。
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公开(公告)号：CN101369034B
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN200810133621.1
申请日：2008-07-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , Y10T428/2457
Abstract: 本发明提供一种光学元件及其制造方法、液晶装置以及电子设备，其中该光学元件是在形成光学元件的保护层的工序中，通过不使保护层的材料流入到相邻的凸起体之间而在凸起体之间确实可靠地形成空洞部，从而提供具有出色的光学特性和耐久性的光学元件。光学元件(20)是具有偏振光分离功能的光学元件，其特征在于，具有：由配置在基底(21)上的导体构成的多个相互大致平行的直线状凸起体(22)、和覆盖多个凸起体(22)的上部且配置成在相邻的凸起体(22)之间形成空洞部(26)的保护层(24)；凸起体(22)的宽度，从凸起体(22)的高度的1/2的位置且在保护层(24)侧为最大。
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