磁盘及其制造方法
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1300774C

    公开(公告)日:2007-02-14

    申请号:CN200410032656.8

    申请日:2004-03-31

    Abstract: 公开了一种制造磁盘的方法,该磁盘在其基底上具有磁性层、保护层和润滑层。该方法中,将润滑剂α进行分子量分级,以制备重均分子量(Mw)为3000~7000、且分子量离差小于或等于1.2的润滑剂a,该润滑剂α含有由化学式HO-CH2-CH(OH)-CH2-O-CH2-CF2(-O-C2F4)p-(O-CF2)q-O-CF2-CH2-O-CH2-CH(OH)-CH2-OH表示的化合物,其中的p和q为自然数,和由化学式HO-CO2-CF2-(-O-C2F4)m-(O-CF2)n-O-CF2-CH2-OH表示的化合物,其中的m和n为自然数;将润滑剂β进行分子量分级,以制备重均分子量(Mw)为2000~5000、且分子量离差小于或等于1.2的润滑剂b,该润滑剂β含有由化学式HO-CH2-CF2(-O-C2F4)m-(O-CF2)n-O-CF2-CH2-OH表示的化合物,其中的m和n为自然数;制备含有润滑剂a和b的混合物的润滑剂c;并在施加在基底上的保护层上形成润滑剂c的膜,以形成润滑层。还公开了一种磁盘,该磁盘在其基底上具有磁性层、保护层和润滑层,其中润滑层在保护层上形成。

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