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公开(公告)号:CN112666788A
公开(公告)日:2021-04-16
申请号:CN202011059191.0
申请日:2020-09-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/24 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F1/60 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 本发明的课题在于提供用于制造具有对蚀刻气体的耐性高、相对于清洗的耐性高的保护膜的反射型掩模的带多层反射膜的基板。为此,本发明的带多层反射膜的基板具有基板、设置于该基板上的多层反射膜、以及设置于该多层反射膜上的保护膜,其中,上述保护膜含有钌(Ru)、并含有选自铝(Al)、钇(Y)、锆(Zr)、铑(Rh)及铪(Hf)中的至少一种添加材料,上述添加材料的含量为5原子%以上且小于50原子%。
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公开(公告)号:CN101944367A
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN201010213001.6
申请日:2006-09-28
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/725 , G11B5/84 , G11B5/82 , C10M107/38
CPC classification number: G11B5/8408 , C10M107/38 , C10N2230/00 , C10N2230/08 , C10N2240/204 , G11B5/725 , G11B5/82
Abstract: 本发明提供一种磁记录盘用润滑剂的成分比测定方法,其特征在于,通过采用核磁共振分光法,进行以19F为对象的第1测定方法,以分析原料,向上述原料中引入官能团而改变端基的结构,从而获得改变的材料,然后通过采用核磁共振分光法进行以与改变的材料相关的1H为对象的第2测定方法,以确定润滑剂的成分比。本发明还提供一种通过采用权利要求1的磁记录盘用润滑剂的成分比测定方法获得的磁记录盘的制造方法。
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公开(公告)号:CN101278340A
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN200680036127.2
申请日:2006-09-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8408 , C10M107/38 , C10N2230/00 , C10N2230/08 , C10N2240/204 , G11B5/725 , G11B5/82
Abstract: 本发明为了获得一种既能实现降低磁头的浮起量,又能发挥高可靠性的磁记录盘,从分子结构和定量方面确定润滑剂。即,在构成磁记录盘1的润滑层14时,使用一类在由下述化学式(化1)表示的全氟聚醚化合物中具有以下组成比的润滑剂。第1成分=71.7%第2成分=15.7%第3成分=11.7%第4成分=0.3%第5成分=0.6%【化1】X-OCH2CF2-(CF2O)m(C2F4O)n-CF2OCH2O-Xm,n=9~11第1成分:X=X1=CH2CH(OH)CH2OH第2成分:X=X2=CH2CH(OH)CH2OCH2CH(OH)CH2OH第3成分:X=X3=H第4成分:X=X4=CF3第5成分:X=X5=CF2Cl。
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公开(公告)号:CN1754952A
公开(公告)日:2006-04-05
申请号:CN200510107545.3
申请日:2005-09-27
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C10M145/24 , G11B5/725
CPC classification number: C10M177/00 , C10M107/38 , C10M131/10 , C10M2213/04 , C10M2213/043 , C10N2230/42 , C10N2240/204 , C10N2250/121 , C10N2270/00 , G11B5/725 , G11B5/8408
Abstract: 本发明涉及制造一种润滑剂,该润滑剂用于从润滑剂制造包含于磁盘中的润滑层,从包含含磷化合物的原料润滑剂中除去含磷化合物以制造所述润滑剂。所述磁盘包含衬底,在衬底上相继形成至少一层磁层、保护层和使用所述润滑剂形成的润滑层。
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公开(公告)号:CN103442868A
公开(公告)日:2013-12-11
申请号:CN201280013580.7
申请日:2012-04-24
Applicant: HOYA株式会社
Inventor: 铃木宏太
IPC: B29C33/72 , B29C33/58 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC classification number: B29C33/72 , B08B7/0057 , B29C33/62 , B29C37/0067 , B29C2035/0827
Abstract: 本发明是一种附有脱模层的模具的清洗方法,其中,所述附有脱模层的模具中,在用于通过压印将预定的图案转移至被转印物上的模具(30)上设置有脱模层(31),脱模层(31)由氟化合物构成,并且该清洗方法具备:紫外线照射处理工序,对附有脱模层的模具的脱模层(31)照射紫外线;和清洗处理工序,对因所述紫外线照射处理工序而发生化学性改性的脱模层进行清洗从而将其除去。其中,在紫外线照射处理工序中,紫外线光源的中心波长设为150nm~200nm时,紫外线的累积照射能量为5000mJ/cm2~7000mJ/cm2。
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公开(公告)号:CN101278339B
公开(公告)日:2010-08-11
申请号:CN200680036017.6
申请日:2006-09-28
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/725 , C10M105/54 , C10M107/38 , G11B5/82 , G11B5/84 , C10N40/18
CPC classification number: G11B5/725 , C10M105/54 , C10M107/38 , C10M2211/0425 , C10M2213/043 , C10M2213/0606 , C10N2220/02 , C10N2220/032 , C10N2230/08 , C10N2230/74 , C10N2240/08 , C10N2240/204 , C10N2250/121 , C10N2270/00 , G11B5/8408
Abstract: 在含有磁性层(12)、保护层(13)和润滑层(14)的磁记录盘(1)中,构成润滑层(14)的润滑剂由这样一种组合物构成,该组合物在热分析法中,当在升温速度为10℃/分的条件下从40℃升温至500℃时,在热重分析中,300℃下的重量变化率处于-20%~-50%的范围内,而且在差热分析中,最大峰出现在300℃附近。由此可以获得能够定量测定润滑剂的耐热性、并在高温下显示出稳定性能的磁记录盘及其制造方法。
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公开(公告)号:CN101410893A
公开(公告)日:2009-04-15
申请号:CN200780011318.8
申请日:2007-03-29
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8408 , G11B5/725
Abstract: 在包含在基板上的磁性层、保护层和润滑层的磁盘中,所述润滑层由自组装单分子层形成。所述自组装单分子层的材料是烃-基硅烷试剂或部分氟化的烃-基硅烷试剂。在所述基板上依次形成所述磁性层和所述保护层(P),然后将其上形成所述磁性层和所述保护层(P)的所述基板浸入到含有所述烃-基硅烷试剂或所述部分氟化的烃-基硅烷试剂的溶液中,从而在所述保护层(P)上形成润滑层(L)。
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公开(公告)号:CN101278339A
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN200680036017.6
申请日:2006-09-28
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/725 , C10M105/54 , C10M107/38 , G11B5/82 , G11B5/84 , C10N40/18
CPC classification number: G11B5/725 , C10M105/54 , C10M107/38 , C10M2211/0425 , C10M2213/043 , C10M2213/0606 , C10N2220/02 , C10N2220/032 , C10N2230/08 , C10N2230/74 , C10N2240/08 , C10N2240/204 , C10N2250/121 , C10N2270/00 , G11B5/8408
Abstract: 在含有磁性层12、保护层13和润滑层14的磁记录盘1中,构成润滑层14的润滑剂由这样一种组合物构成,该组合物在热分析法中,当在升温速度为10℃/分的条件下从40℃升温至500℃时,在热重分析中,300℃下的重量变化率处于-20%~-50%的范围内,而且在差热分析中,最大峰出现在300℃附近。由此可以获得能够定量测定润滑剂的耐热性、并在高温下显示出稳定性能的磁记录盘及其制造方法。
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