附载体铜箔
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109379858A

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201811088181.2

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种附载体铜箔。本发明提供一种适于形成窄间距的附载体铜箔。该附载体铜箔具备铜箔载体、积层于铜箔载体上的剥离层、与积层于剥离层上的极薄铜层,极薄铜层经粗化处理,极薄铜层表面的Rz以非接触式粗糙度计进行测定为1.6μm以下。

    附载体铜箔
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104584699B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201380041401.5

    申请日:2013-08-08

    Abstract: 本发明提供一种附载体铜箔,其在向绝缘基板的积层步骤前载体与极薄铜层的密接力高,另一方面,在向绝缘基板的积层步骤后载体与极薄铜层的密接性降低,而可容易地在载体/极薄铜层的界面进行剥离,且可良好地抑制极薄铜层侧表面的针孔的产生。中间层在铜箔载体上依序积层镍、与钼或钴或钼‑钴合金而构成。在中间层中,镍的附着量为1000~40000μg/dm2,在包含钼的情形时钼的附着量为50~1000μg/dm2,在包含钴的情形时钴的附着量为50~1000μg/dm2。当使中间层/极薄铜层之间剥离时,在自中间层表面起算的深度方向分析的区间[0.0,4.0]中,∫i(x)dx/(∫g(x)dx+∫h(x)dx+∫i(x)dx+∫j(x)dx+∫k(x)dx+∫l(x)dx+∫m(x)dx)或∫j(x)dx/(∫g(x)dx+∫h(x)dx+∫i(x)dx+∫j(x)dx+∫k(x)dx+∫l(x)dx+∫m(x)dx)为20%~80%,在[4.0,12.0]中,∫g(x)dx/(∫g(x)dx+∫h(x)dx+∫i(x)dx+∫j(x)dx+∫k(x)dx+∫l(x)dx+∫m(x)dx)满足40%以上。

    带载体的铜箔、覆铜板、印刷布线板及其制造方法

    公开(公告)号:CN103796422B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201310516914.9

    申请日:2013-10-28

    Abstract: 本发明提供带载体的铜箔、使用它的覆铜板、印刷布线板、印刷电路板和印刷布线板的制造方法。所述带载体的铜箔能很好地抑制铜箔的翘曲而不会限制极薄铜层和载体的种类、以及它们的厚度。所述带载体的铜箔具有铜箔载体、层叠在铜箔载体上的中间层以及层叠在中间层上的极薄铜层,当设残余应力在收缩方向上时为正值、在拉伸方向上时为负值时,铜箔载体厚度和铜箔载体外侧表面的残余应力的乘积、与极薄铜层厚度和极薄铜层外侧表面的残余应力的乘积之差为-150μm·MPa以上500μm·MPa以下。

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