-
公开(公告)号：CN119422063A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380048670.8
申请日：2023-07-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·拉维钱德兰 , S·帕拉伊尔·文戈帕兰
IPC: G01R31/312
Abstract: 一种用于检查衬底(200)上的导电图案(202)的设备(201)，包括：多个传感器板(204)；台，被配置和布置为支撑衬底；电压源(208)，被配置为在传感器板和衬底上的导电图案之间生成电场；致动器(206)，被配置为相对于衬底移动传感器板；控制器(210)，被配置和布置为当传感器板相对于衬底被移动时，基于在传感器板和衬底之间的电容改变来标识具有缺陷的区域。
-
公开(公告)号：CN119422055A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380048970.6
申请日：2023-07-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·J-J·维兰德
IPC: G01N23/2202 , H01J37/02 , G01N1/44 , G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N23/2276
Abstract: 本公开涉及用于使用带电粒子评估样品(208)的装置和方法。在一种布置中，脱气作用通过将样品(208)的目标区域暴露于带电粒子以激发脱气来执行。从目标区域脱气的速率在脱气作用期间被测量。样品(208)的评估的启动基于所测量的脱气的速率的特性来控制。样品(208)的评估包括将目标区域暴露于带电粒子并且检测来自目标区域的信号带电粒子。
-
公开(公告)号：CN119404151A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380049269.6
申请日：2023-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 描述了一种通过使用玻璃板来产生离轴照射束的对准系统的新方法。将一对玻璃板插入到对准系统以产生一对离轴照射束。离轴照射束穿过孔径光阑。具有多个全反射镜的透射光学器件将射束朝向物镜反射。此后，物镜将射束聚焦到衬底上的对准标记上。然后，检测并分析衍射射束以确定衬底的对准。玻璃板对准系统的紧凑性显著减小了光学系统的占位空间。
-
公开(公告)号：CN119404150A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380049284.0
申请日：2023-05-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·T·范金斯伯格 , A·J·卡阿塔斯 , J·R·唐斯 , 马克-简·斯皮克曼 , 罗伯托·帕加诺
Abstract: 公开了一种确定物理量的方法。所述方法使用被配置成对多个位置进行并行采样的传感器系统，其中，对每个位置进行采样使用入射到物体平面图案形成装置（标记）和图像平面传感器上的辐射。每个标记包括第一部分和第二部分，所述第一部分不同于所述第二部分，并且其中，所述标记中的至少一个标记的第一部分和所述第二部分相对于其它标记的第一部分和所述第二部分而被转置。每个标记对应于不同的采样位置。对于每个标记的每个部分，所述方法包括：在第一方向上执行第一测量；以及在不同于所述第一方向的第二方向上执行第二测量。四个数据集被确定且随后被组合以确定物理参数。
-
公开(公告)号：CN113196173B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201980083129.4
申请日：2019-11-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 描述了利用经训练的机器学习模型对图像图案进行分组以确定图案化过程中的晶片行为。所描述的操作包括基于经训练的机器学习模型将包括所述图像图案的一个或更多个图案化过程图像转换成特征向量。所述特征向量对应于所述图像图案。所描述的操作包括基于经训练的机器学习模型对具有指示在所述图案化过程中引起匹配晶片和/或晶片缺陷行为的图像图案的特征的特征向量进行分组。所述一个或更多个图案化过程图像包括空间图像、抗蚀剂图像和/或其它图像。分组后的特征向量可以用以：在作为光学邻近效应校正的部分的光刻可制造性检验期间检测晶片上的潜在图案化缺陷；调整掩模布局设计；和/或产生轨距线/缺陷候选清单；以及其它用途。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119384639A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380051038.9
申请日：2023-08-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·巴斯塔尼 , K·S·涅恰 , R·阿努恩西亚多 , S·C·T·范德山登
IPC: G03F7/00 , G01N21/956
Abstract: 披露了用于相对于待测量的经图案化的衬底上的图案来对检查设备的视场配置进行配置的方法。所述方法包括：获得包括跨越所述图案的至少一部分的至少一个参数分布的量测数据，所述至少一个参数分布与相应的所关注的一个或更多个参数和/或用于所关注的参数的相应的一个或更多个代理参数相关；针对变化的视场配置确定变化指标数据，所述变化指标数据量化当所述参数分布限于视场时在所述参数分布内所获取的变化的量；以及基于所述变化指标数据相对于所述图案来配置所述视场配置。
-
公开(公告)号：CN119384636A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380046741.0
申请日：2023-05-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00 , G01N21/956 , G01R31/307 , H01L21/66 , H01J37/22
Abstract: 公开了使用带电粒子束装置检测样品中的缺陷的系统和方法。该装置可以包括被配置为发射带电粒子的带电粒子源和包括电路系统的控制器，该电路系统被配置为：使用初级带电粒子束的第一剂量的带电粒子照射样品的包括多个特征的区域；使用初级带电粒子束的第二剂量的带电粒子来检查多个特征，获取所检查的多个特征的图像；以及基于多个特征中的特征的灰度级值来确定是否存在缺陷，其中第一剂量小于饱和剂量，并且其中饱和剂量包括超过特征的电荷存储容量的带电粒子的总数。
-
公开(公告)号：CN113841071B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202080037201.2
申请日：2020-05-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·H·J·穆尔斯 , V·Y·巴宁 , A·尼基佩洛维 , M·A·范德凯克霍夫 , P·雅格霍比
Abstract: 一种反射镜，包括本体和由本体限定的表面。本体包括多个层。当具有第一波长的辐射入射到该表面上时，该多个层被布置成充当具有所述第一波长的辐射的多层布拉格反射器。表面的局部切面相对于多个层的局部切面以非零角度倾斜。
-
公开(公告)号：CN119343738A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046126.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制器(296)，其包括通信地耦合到多射束检查装置和检测器通信的电路系统，其被配置为：聚焦透镜以调节次级束斑的尺寸，其中次级束斑由检测器上的多个次级带电粒子束形成；对于多个次级带电粒子束中的每个次级带电粒子束，使得每个次级带电粒子束的离群带电粒子不被检测器检测到；以及重新聚焦透镜以调节由检测器检测到的多个次级带电粒子束的部分的电流，其中离群带电粒子不对电流产生贡献。
-
公开(公告)号：CN111406235B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN201880075157.7
申请日：2018-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 一种衬底保持器用于光刻设备中并配置成将衬底支撑在衬底支撑件上。所述衬底保持器包括：主体，具有第一主体表面和第二主体表面，其中所述第一主体表面和第二主体表面在所述主体的相反侧上；多个第一突节，从所述第一主体表面突出，其中每个第一突节具有配置成支撑所述衬底的远端表面；和多个第二突节，从所述第二主体表面突出，其中每个第二突节具有用于将所述衬底保持器支撑在所述衬底支撑件上的远端表面，其中第一子集的所述多个第一突节的远端表面距离所述第一主体表面第一距离，第二子集的所述多个第一突节的远端表面距离所述第一主体表面第二距离，所述第一距离大于所述第二距离。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
5313
records
(took 0.263 seconds)
