用于防止在微阵列扫描中的过分曝光和光泄漏的掩模

    公开(公告)号:CN101507256A

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200680045923.2

    申请日:2006-12-04

    Inventor: D·Y·楚

    CPC classification number: G01N21/253 G01N2201/0446 G01N2201/1042

    Abstract: 微阵列的扫描是通过能够曝光微阵列上的多个但不是所有位置的掩模来实现的,并且掩模可相对于微阵列移动或者微阵列可相对于掩模移动,或者两者兼之。掩模作为在扫描头的行进处于待机、目标速度时限制对能够照明的微阵列上的微阵列位置的照明的部件是十分有用的,它能够在扫描头轨迹中的一些扫描头加速或者减速的点上阻止光在扫描头和微阵列之间的通过。通过防止光泄漏到与正在扫描的位置相邻的位置上,掩模可以十分有效地减小在微阵列成像中的背景噪声。

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