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公开(公告)号：CN1519822A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN200410001285.7
申请日：2004-01-06
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
IPC: G11B7/0045 , B41M5/26
CPC classification number: G11B7/1267 , G11B7/00456 , G11B7/0062
Abstract: 本发明提供可以对记录密度高的光记录媒体，形成形状稳定的坑，减少晃动的信号输出方法。这是一种输出用来向光信息记录媒体中写入信息的写入信号的信号输出方法，由其构成为反复进行写入可能期间和休止期间的写入许可信号和应在上述写入许可信号期间内输出的写入数据信号构成上述写入信号，设在与上述写入信号的最大休止期间中的上述休止期间的紧挨着的后边的写入许可信号对应的上述写入数据信号之内，最先的上述写入数据信号的输出期间为Tfmax，设在与上述写入信号的最小休止期间中的上述休止期间的紧挨着的后边的写入许可信号对应的上述写入数据信号之内，最先的上述写入数据信号的输出期间为Tfmin，设基准周期为T时，输出上述写入信号，以便上述Tfmax、上述Tfmin和上述T满足Tfmax－Tfmin≥0.01T。
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公开(公告)号：CN1450541A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN03110241.7
申请日：2003-04-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
CPC classification number: G11B7/241 , G11B7/24079 , G11B7/244 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/248 , G11B7/252 , G11B7/253 , G11B7/2534 , G11B7/2538 , G11B7/254 , G11B7/2542 , G11B7/256 , G11B7/2578 , G11B7/259 , G11B7/26
Abstract: 提供一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中具有用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体的层叠体制造工序，以及具有以下任一粘合工序：一边使表面膜的内周面保持在基板的内周面的外侧，一边将表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序，根据基板的外周面调节粘合的位置，将表面膜与层叠体粘合的粘合工序，将表面膜放置在平台上，在表面膜上粘合层叠体的粘合工序，以及将设置剥离膜的表面膜粘合在层叠体上后，从表面膜向外侧露出的剥离膜，从露出部分将剥离膜剥离的粘合工序。另外，本发明还提供一种用上述任何方法制造的光信息记录介质。
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公开(公告)号：CN111108000B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201880061338.4
申请日：2018-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 提供能够记录良好的图像并且能够将装置小型化的图像曝光装置。一种图像曝光装置(10)，其具备：图像显示装置(12)，具有像素(13)；感光性记录介质支撑部(21)，以使感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)相对的方式支撑记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)；以及透射光控制部(16)，设置在图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，并且层叠3层以上的透射部件(100)而成，所述透射部件(100)形成有多个开口(102)并且仅透射入射于开口(102)的光。
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公开(公告)号：CN111263916B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201880068921.8
申请日：2018-10-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够防止画质的降低和波纹且能够对多个波长的光进行曝光的图像曝光装置及图像曝光方法。图像曝光装置(10)具备：图像显示装置(20)，具备发射多个波长的光的像素；感光性记录介质支撑部(70)，支撑记录图像显示装置(20)的图像的感光性记录介质(40)；准直部(50)，配置于图像显示装置(20)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光(RL)设成在比辐射光(RL)的辐射角窄的第1辐射角(θ1)的范围内辐射的第1透射光(TL1)；及干扰滤光片(60)，配置于准直部(50)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含多个波长的光的第1透射光(TL1)设成在第1辐射角(θ1)的范围以下的第2辐射角(θ2)的范围内辐射的第2透射光(TL2)。
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公开(公告)号：CN110199175B
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN201880007332.9
申请日：2018-01-26
IPC: G01B11/25 , G01B11/245
Abstract: 本发明提供一种即使用透光性的罩体覆盖具备投射部、第1及第2摄像部的光学系统以使其不向外部曝光，也不会降低被测物体的3维信息的检测精确度的3维信息检测装置。具备：投射部，向被测物体投射图像图案；第1摄像部及第2摄像部，分别拍摄图像图案；透光性的罩体，覆盖具备投射部、第1摄像部及第2摄像部的光学系统；及计算部，根据被第1摄像部及第2摄像部所拍摄到的图像图案来计算被测物体的3维信息，光学系统的至少装配面的一部分由光吸收部件形成，在图像图案的投射光中被罩体正反射的反射光直接入射的区域外配置有第1摄像部及第2摄像部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112088528A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980030931.7
申请日：2019-04-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种摄影系统，其包括多个移动式设备，所述移动式设备具备：获取部，当通过识别部识别为分配有摄影担当的任务时，获取通过基于摄影设备的摄影而得到的图像；配置控制部，当在通过所述获取部获取的图像内不存在预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备中的至少一方时，进行用于在所述摄影设备的视角内配置所述预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备的控制；及存储控制部，当在通过所述获取部获取的图像内存在所述预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备时，进行将通过所述获取部获取的图像存储于存储部的控制，所述多个移动式设备包含至少各一台分配有摄影对象的任务的移动式设备和分配有摄影担当的任务的移动式设备。
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公开(公告)号：CN111263916A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201880068921.8
申请日：2018-10-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够防止画质的降低和波纹且能够对多个波长的光进行曝光的图像曝光装置及图像曝光方法。图像曝光装置(10)具备：图像显示装置(20)，具备发射多个波长的光的像素；感光性记录介质支撑部(70)，支撑记录图像显示装置(20)的图像的感光性记录介质(40)；准直部(50)，配置于图像显示装置(20)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光(RL)设成在比辐射光(RL)的辐射角窄的第1辐射角(θ1)的范围内辐射的第1透射光(TL1)；及干扰滤光片(60)，配置于准直部(50)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含多个波长的光的第1透射光(TL1)设成在第1辐射角(θ1)的范围以下的第2辐射角(θ2)的范围内辐射的第2透射光(TL2)。
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公开(公告)号：CN110325664A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201880013602.7
申请日：2018-02-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够简便地制造不易因外力而变形的导电性层叠体的方法，该导电性层叠体包含含有曲面的三维形状，且在该曲面上配置有金属层。并且，还提供一种导电性层叠体及触摸传感器。该导电性层叠体的制造方法包括如下：从将长条状的可挠性基板卷绕而成的卷中拉出可挠性基板，一边将拉出的可挠性基板沿长度方向进行输送，一边在可挠性基板的至少一个主面上形成被镀层前体层，准备支撑体，在支撑体的至少一个主面上粘贴带被镀层前体层的可挠性基板，并对带被镀层前体层的支撑体赋予能量而得到带图案状被镀层的支撑体，将其形成为含有曲面的三维形状，并对图案状被镀层实施镀敷处理而得到含有三维形状的导电性层叠体。
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公开(公告)号：CN106165105B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201580015681.1
申请日：2015-03-26
Applicant: 富士胶片株式会社 , 国立大学法人东京大学
IPC: C07D495/14 , H01L29/786 , H01L21/336 , H01L51/05 , H01L51/30 , H01L51/40
CPC classification number: H01L51/0074 , C07D495/14 , C09B57/00 , C09D5/24 , H01L51/0007 , H01L51/0558 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 一种非发光性有机半导体器件用涂布液，其含有通式(2)表示的化合物和沸点为100℃以上的溶剂(通式(2)中，R11和R12各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基或烷氧基，也可以具有取代基，通式(2)中的芳香族部分可以取代有卤原子)，该涂布液的载流子迁移率高。本发明提供有机晶体管、化合物、非发光性有机半导体器件用有机半导体材料、有机晶体管用材料、有机晶体管的制造方法和有机半导体膜的制造方法。
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公开(公告)号：CN104334009B
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201380027728.7
申请日：2013-05-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: A01G7/04 , F21V9/14 , F21Y115/10
CPC classification number: A01G9/14 , A01G7/045 , F21V9/14 , F21Y2115/10 , G02B27/286 , Y02P60/146
Abstract: 本发明提供一种用以选择性照射圆偏光的系统、圆偏光反射构件及其应用，该系统用以向对象物选择性照射特定的圆偏光，该系统包括控制光的偏光状态而产生圆偏光的偏光状态控制构件、及圆偏光反射构件，上述圆偏光反射构件是配置于自上述偏光状态控制构件出射的圆偏光可入射的位置，上述圆偏光反射构件产生反射光，该反射光选择性包含旋向与所入射的来自上述偏光状态控制构件的圆偏光相同的圆偏光，上述圆偏光反射构件是以可将上述反射光的至少一部分照射于上述对象物的方式配置。
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