图像曝光装置及图像曝光方法

    公开(公告)号:CN111108439A

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201880061365.1

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 提供能够抑制图像的模糊的图像曝光装置及图像曝光方法。图像曝光装置(10)具备:图像显示装置(20),具有像素(21);感光性记录介质支撑部,将记录图像显示装置(20)的图像的感光性记录介质(40)支撑为使感光性记录介质(40)的曝光面(40A)与图像显示装置(20)对置;准直部(50),设置于图像显示装置(20)与感光性记录介质(40)之间,并将来自像素(21)的光设为平行光;及吸收层(60),设置于图像显示装置(20)与感光性记录介质(40)之间,来自像素(21)的光的透光率为50%以下。

    有机半导体膜的制造装置

    公开(公告)号:CN108496245A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201780007888.3

    申请日:2017-01-11

    CPC classification number: H01L29/786 H01L51/05

    Abstract: 本发明提供一种使用有机半导体溶液来制造有机半导体膜的有机半导体膜的制造装置。制造装置具有:涂布部件,与形成有机半导体膜的基板的表面对向且分开而配置,在与基板之间形成有机半导体溶液的积液;供给部,向基板和涂布部件之间供给有机半导体溶液;以及罩部,至少覆盖有机半导体溶液的晶体生长部。罩部具备附着有机半导体溶液蒸发出的溶剂且将由有机半导体溶液蒸发出的溶剂形成的附着物导向有机半导体膜的未成膜区域的引导件。一边由供给部向与基板的表面之间供给有机半导体溶液,一边使涂布部件以接触有机半导体溶液的状态在与基板的表面平行的第1方向上移动,从而将晶体生长部作为起点而形成有机半导体膜。

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