公开(公告)号：CN101487981A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200910008214.2

申请日：2005-10-12

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。

公开(公告)号：CN101354539A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810160953.9

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN101171668A

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：CN200680015882.2

申请日：2006-03-31

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明的曝光装置具备：供应用以充满曝光用光的光路空间(K1)的液体的液体供应装置，与配置于曝光位置的基板表面相对向、且围住曝光用光的光路空间(K1)的第1岛面(75)，以及配置在第1岛面(75)外侧的第2岛面(76)。第1岛面(75)能将液体保持在与基板表面之间。第2岛面(76)设置成不会与和基板表面之间存在的液体的膜接触。据此，在一边移动基板一边进行曝光时，也能将曝光用光的光路空间以液体充满成期望状态。

公开(公告)号：CN101156226A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200680010913.5

申请日：2006-04-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板(P)上形成液体(LQ)的液浸区域(LR)的步骤；根据在基板(P)表面与液体(LQ)之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域(LR)的液体(LQ)使基板(P)曝光的步骤。根据本发明，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。

公开(公告)号：CN101091233A

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：CN200680001602.2

申请日：2006-03-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具备：第一陆面(75)，其与衬底的表面相对置，且围绕曝光用光的光路空间(K1)；第二陆面(76)，其与衬底的表面相对置，且在规定方向上被设于第一陆面(75)的外侧；回收口(22)，其回收用于充填光路空间(K1)的液体。第一陆面(75)与衬底的表面大致平行地设置。第二陆面(76)被设于相对衬底的表面比第一陆面(75)还远的位置，回收口(22)被设于第一陆面(75)和第二陆面(76)的外侧。在一边衬底移动衬底一边进行曝光时，也可以利用液体将曝光用光的光路空间充填为所希望的状态。

公开(公告)号：CN1836312A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN200480023577.9

申请日：2004-08-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  石井勇树 ,  牧野内进

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。

公开(公告)号：CN1754250A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN200480005148.9

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一 ,  西井康文

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN1650401A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN03809635.8

申请日：2003-04-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  青木贵史

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70908

Abstract: 在本发明的实施例中，将衬底W作为隔壁的一部分、用透过能量光束IL的透过性气体充满投影光学系统PL的射出端侧，而且在移动或交换衬底时，为了维持投影光学系统PL的射出端侧的气体状态，将物体70设置在投影光学系统PL的射出端侧来取代衬底W。由此，可以从投影光学系统的射出端侧适当地排除吸光物质，在移动或交换衬底时也能够维持该状态。

公开(公告)号：CN102520592A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201110446843.0

申请日：2006-04-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板(P)上形成液体(LQ)的液浸区域(LR)的步骤；根据在基板(P)表面与液体(LQ)之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域(LR)的液体(LQ)使基板(P)曝光的步骤。根据本发明，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。

公开(公告)号：CN101156226B

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN200680010913.5

申请日：2006-04-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板(P)上形成液体(LQ)的液浸区域(LR)的步骤；根据在基板(P)表面与液体(LQ)之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域(LR)的液体(LQ)使基板(P)曝光的步骤。根据本发明，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。