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公开(公告)号：CN106944402A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201710011014.7
申请日：2017-01-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/024 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B7/0071 , B08B2230/01 , G03F7/422 , H01L21/67098 , H01L21/67109 , B08B1/02 , B08B11/00 , B08B13/00 , H01L21/67023
Abstract: 清洗装置(1)具有：加热单元(5)，其对基板(W)的清洗面进行加热；清洗单元(6)，其向基板(W)的清洗面供给臭氧水而对清洗面进行清洗；以及控制单元(7)，其对清洗面的加热和清洗液的供给进行控制，以使得在对基板(W)的清洗面进行了加热之后对清洗面进行清洗。
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公开(公告)号：CN101985208B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201010271684.0
申请日：2007-10-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B37/04 , B24B55/02 , Y10S451/914
Abstract: 一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
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公开(公告)号：CN101985208A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN201010271684.0
申请日：2007-10-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B37/04 , B24B55/02 , Y10S451/914
Abstract: 一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
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公开(公告)号：CN101228623A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200680026891.1
申请日：2006-08-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/683 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/6723 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/68728
Abstract: 提供了基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元和基板电镀设备，使得诸如机器人臂的基板载入机构在载入基板之后快速释放保持在基板上，从而缩短保持所述基板的时间并提高流通量。所述基板处理单元(10)包括用于将所述基板(11)保持在特定的保持位置的基板保持机构(10)，以及处理机构(32)，用于将规定的处理施加至由所述基板保持机构所述保持的所述基板，其中基板引导机构(20)设有引导销(15)，用于将所述基板引导至保持位置附近。所述基板引导机构具有位于保持位置的所述基板的外周上的多个辊(14)，而所述多个辊适于通过从所述基板的侧部将所述基板的周边支承在所述保持位置的附近而支承所述基板，所述辊具有一体的结构，所述一体的结构包括大直径部分以及形成在所述大直径部分上方的小直径部分，而大直径部分的上侧部分具有肩部，以便所述基板在传送中临时地支承在其上，并且所述肩部形成有朝向其外周向下倾斜的倾斜表面。
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