互连结构和方法
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104051414A

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201310241836.6

    申请日:2013-06-18

    Abstract: 本发明涉及互连结构和方法,提供了一种半导体器件包括第一半导体芯片和第二半导体芯片,其中,第一半导体芯片包括第一衬底和形成在第一衬底上方的多个第一金属线;第二半导体芯片接合在第一半导体芯片上,其中,第二半导体芯片包括第二衬底和形成在第二衬底上方的多个第二金属线。半导体器件进一步包括连接在第一金属线和第二金属线之间的导电塞,其中,导电塞包括形成在硬掩膜层的第一侧面上方的第一部分和形成在硬掩膜层的第二侧面上方的第二部分,其中,第一部分具有第一宽度;第二部分具有第二宽度,且第二宽度大于或等于第一宽度。

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