防静电膜及防静电膜的制备方法

    公开(公告)号:CN107986638A

    公开(公告)日:2018-05-04

    申请号:CN201711330241.2

    申请日:2017-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种防静电膜及防静电膜的制备方法。一种防静电膜,包括:基板;透光层,所述透光层包括层叠于所述基板表面的五氧化二铌层及层叠于所述五氧化二铌远离所述基板表面的二氧化硅层;防静电层,所述防静电层层叠于所述二氧化硅层远离所述五氧化二铌层的表面,所述防静电层为ITO层;及防腐蚀层,所述防腐蚀层层叠于所述放静电层远离所述二氧化硅层的表面,所述防腐蚀层为ATO层。上述防静电膜及防静电膜的制备方法,在TFT玻璃中,能够避免玻璃表面的氟硅酸盐物质对ITO层造成侵蚀,同时在ITO层上层叠ATO层,能避免ITO层被空气中的潮湿和酸碱物质侵蚀;且五氧化二铌层和二氧化硅层能组成光学高透膜,有效提高防静电膜的透射率。

    化学强化玻璃的制备方法
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103482859B

    公开(公告)日:2017-06-30

    申请号:CN201310400447.3

    申请日:2013-09-05

    Abstract: 一种化学强化玻璃的制备方法,包括以下步骤:提供浮法玻璃,所述浮法玻璃的一面为锡面;对所述浮法玻璃的锡面进行抛光处理;将抛光处理后的浮法玻璃预热至380~420℃;对预热后的浮法玻璃进行化学强化处理,得到化学强化玻璃;及对所述化学强化玻璃进行清洗。上述化学强化玻璃的制备方法,通过对浮法玻璃的锡面进行抛光处理,减小了锡面层的厚度,因此锡的含量降低,减小了对离子交换的影响,而另一面由于没有浸入锡,离子交换不受影响,故玻璃化学强化后两面之间的表面压应力差异减小,从而减小了玻璃翘曲度。

    抛光废水的处理方法及抛光废水处理系统

    公开(公告)号:CN106396175A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610939575.9

    申请日:2016-10-31

    Abstract: 本发明涉及一种抛光废水的处理方法。抛光废水中包括二氧化铈及钠盐悬浮剂,抛光废水的处理方法包括以下步骤:向所述抛光废水中加入强碱破坏所述抛光废水的悬浮特性得到中间液体;向所述中间液体中加入絮凝剂进行絮凝处理得到反应液,所述絮凝剂包括聚合氯化铝和聚丙烯酰胺;及对所述反应液进行沉淀处理。在抛光废水中通过投加强碱,强碱可以与抛光废水中的悬浮剂发生作用破坏悬浮剂的悬浮特性,或者使悬浮剂溶解于碱性环境中,导致抛光废水中的悬浮剂失效,同时破坏其粘稠状态,使抛光废水变得易于沉降,然后投加常用的絮凝剂,通过这种方式,沉淀速率大大提高。

    磁控溅射制备导电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103774110B

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201410039632.9

    申请日:2014-01-27

    Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射制备导电薄膜的方法。该方法包括提供基板,将所述基板放入磁控溅射腔室中;提供阴极和靶材,将所述阴极和靶材放入所述磁控溅射腔室中;以及在电源的作用下,同时采用直流磁控溅射和射频磁控溅射在所述基板上溅射制备导电薄膜的步骤。这种方法同时采用溅射直流溅射镀膜和射频溅射在基板上溅射镀膜。经实验表明,该方法能够在较低的电压下镀膜,能够避免直流磁控溅射镀膜存在的电阻率高和透射率低的问题。

    TFT基板的防静电方法
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103882400B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201410126866.7

    申请日:2014-03-28

    Abstract: 本发明涉及一种TFT基板的防静电方法,包括提供TFT基板及采用中频磁控溅射在所述TFT基板上制备ITO薄膜,其中,所述中频磁控溅射的电压为250V~300V,功率为700w~1000w的步骤。该方法与传统的直流磁控溅射相比,所采用电压和功率较小,能耗小,且制备的ITO薄膜的厚度均匀性较好,使得TFT基板防静电效果较好。

    触控显示装置及其制备方法

    公开(公告)号:CN105242432A

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201510688523.4

    申请日:2015-10-21

    CPC classification number: G02F1/13338 G02F1/1303

    Abstract: 本发明涉及一种触控显示装置及其制备方法。通过在薄膜晶体管基板表面形成触控感应层,并在薄膜晶体管的彩色滤光片基板表面形成高阻层,高阻层与触控感应层电连接形成触控模组。由于高阻层直接形成在彩色滤光片基板表面,无需再使用一层玻璃承载高阻层,相比传统的触控显示装置,减少了一层ITO玻璃及用来粘合的光学胶,从而上述触控显示装置较薄。另外,高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂,可以起到消除静电的作用,提高触控的灵敏度。

    触控显示装置及其制备方法

    公开(公告)号:CN105159504A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510632685.6

    申请日:2015-09-29

    Abstract: 本发明涉及一种触控显示装置及其制备方法。一种触控显示装置,包括薄膜晶体管显示模组,所述薄膜晶体管显示模组包括薄膜晶体管基板及与薄膜晶体管基板间隔设置的彩色滤光片基板,所述触控显示装置还包括触控感应层及通过引线与所述触控感应层连接的高阻层,所述触控感应层层叠于所述薄膜晶体管基板表面,所述高阻层涂覆于所述彩色滤光片基板表面,所述高阻层的材料包括石墨烯。上述触控显示装置厚度较薄。

    ITO靶材与铜背板的绑定方法

    公开(公告)号:CN103737140B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201310744860.1

    申请日:2013-12-30

    Inventor: 阳威 张迅 易伟华

    Abstract: 本发明涉及一种ITO靶材与铜背板的绑定方法。该ITO靶材与铜背板的绑定方法包括将铜背板固定于加热台上,将ITO靶材放置于所述铜背板上;对所述铜背板进行加热,通过钎焊将所述ITO靶材贴合在所述铜背板上;及在所述ITO靶材的远离所述铜背板的表面上放置配重块,待所述ITO靶材冷却后取下所述配重块的步骤。方法将铜背板固定于加热台上,铜背板在升温过程中变形量减少,提高了粘贴面的平整度,为高质量的ITO靶材绑定做好准备,钎焊后在ITO靶材上放置配重块,解决了铟流动性不均匀的问题及避免了粘贴面气孔的产生,从而提高了ITO靶材与铜背板的绑定质量。

    磁控溅射镀膜阴极机构
    49.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103290378B

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201310210428.4

    申请日:2013-05-30

    Abstract: 一种磁控溅射镀膜阴极机构,包括依次层叠的靶材、背板以及磁性材料层,所述靶材在工作时形成有跑道区,所述靶材与所述背板之间设有导磁材料层,所述导磁材料层的形状与所述跑道区的形状相匹配。上述磁控溅射镀膜阴极机构,在靶材和背板之间加入与靶材跑道区形状相匹配的导磁材料层,通过改变靶材表面的磁场设计,将磁力线变得更加散开,增强靶材表面磁场的均匀性,从而增加了靶材表面蚀刻的宽度,即扩大了溅射跑道的宽度,使得靶材利用率由原来的30%-35%提高到40%-45%左右,节约了生产成本。

    无痕活动式玻璃夹具
    50.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102963726B

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201210505017.3

    申请日:2012-11-30

    Abstract: 本发明涉及一种无痕活动式玻璃夹具,包括边框、上梁以及下梁,所述上梁和下梁错开安装于所述边框,所述上梁或下梁设有弹性装置,所述弹性装置位于所述上梁和下梁之间。上述无痕活动式玻璃夹具在夹取玻璃时,弹性装置只与玻璃的截断面接触,与玻璃两个表面均不接触,因此不会对玻璃的两个表面造成破坏,适用于对玻璃特别是小尺寸玻璃的夹取。

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