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公开(公告)号：CN101546003A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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公开(公告)号：CN101017218A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710020411.7
申请日：2007-02-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜，在薄膜的一侧表面，设有平铺的光栅像素单元，其特征在于：所述光栅像素单元由亚像素结构组成，每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤：(1)设计导光图样的衍射结构分布；(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列，每一个单元像素由亚像素构成，每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变；(3)光刻；(4)通过电铸制成金属镍板，对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性，提高了导光效果，其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号：CN118417683A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310080615.9
申请日：2023-02-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B23K26/046 , H01L31/18 , H01L31/0224 , B23K26/064
Abstract: 本发明涉及一种光伏电池片电极及其制作方法和制作装置、以及应用。光伏电池片电极的制作装置包括激光源、准直光束产生单元和光束聚焦单元；准直光束产生单元位于激光源的出光侧，用于将激光源射出的激光束转换成准直光束并投射至光束聚焦单元；光束聚焦单元位于准直光束产生单元的出光侧，用于将准直光束聚焦至待光刻电池片上。应用本发明的制作装置制作光伏电池片电极时，不需要多组空间光调制器、投影光学系统和照明光学系统，因此装置研制成本成倍下降；不需要数据处理和多路光路重叠对准，因而提升了制作可靠性和效率；可实现较高深宽比例如3μm～20μm线宽、1μm～20μm深、深宽比为0.3～2的电极图形沟槽的光刻，从而获得较为优质的光伏电池片电极。
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公开(公告)号：CN118330993A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202310034683.1
申请日：2023-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括：掩模版、基片及多个光学头，每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组，光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置，掩模投影光学模组为反向成像模组，投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配，各个光学头可以并行扫描曝光，解决单个光学头视场有限的问题，原理上幅面不受限制，且本发明光路实施可行性高，可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形，易于加工实现，且降低生产应用成本。
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公开(公告)号：CN118052902A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202211422070.7
申请日：2022-11-14
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本申请涉及凹版印刷技术领域，具体公开一种数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质。方法包括对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理，得到位于二维平面的矢量线条数据；生成透光模板集T＝{T1，T2,…，TN}，获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量，并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角，确定各采样点的透光级；根据各采样点的透光级与各透光模板的对应关系，确定各采样点对应的透光模板；叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板，得到光刻数据。由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点，因此可以在体现3D景深的变化的同时，实现透光率的渐变效果，体现出立体模型的光影变化，立体效果的表达方式更多元，更能体现真实立体感。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116190465A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202111418131.8
申请日：2021-11-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L31/0224 , H01L31/06 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种太阳能电池及其制备方法。所述太阳能电池包括：太阳能电池模组；贴附于所述太阳能电池模组的一侧表面上的电极薄膜，所述电极薄膜包括：透明基层、透明压印层和形成于所述透明压印层内或所述透明压印层一侧表面的导电材料层，所述导电材料层与所述太阳能电池模组电性连接以形成所述太阳能电池模组的电极；其中，所述电极薄膜和所述太阳能电池模组通过层压贴合。这样得到的太阳能电池具备高透过率，光电转换效率高，同时该制备方法，可方便的进行批量生产，成本低。
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公开(公告)号：CN112269271B
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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公开(公告)号：CN106406061B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201611033273.1
申请日：2016-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种体全息元件，其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层，信息层设置于基材层上，或者信息层设置于相邻的两基材层之间；从体全息元件的剖面看，其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面，每个像素内部的条纹面具有周期性，并且与基片平面具有夹角，每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光，经后续化学或物理处理，构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。
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公开(公告)号：CN111999984B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN201910448289.6
申请日：2019-05-27
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种光刻方法，用于将待处理图形进行无掩模版的光刻，所述方法包括如下步骤：S1：将所述待处理图形进行K次拆分，形成K幅子图形；S2：预设分割宽度M，分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带；S3：将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组，形成n条新条带；S4：光刻所述新条带，其中，每完成一条新条带光刻，步进一条所述子条带的宽度M，进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组，实现子条带分辨率的增强，从而达到光刻分辨率增强的效果。
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公开(公告)号：CN112799286A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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