偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置

    公开(公告)号:CN117826304A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202211181357.5

    申请日:2022-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。偏振薄膜包括:透明基底;介质光栅,位于透明基底上,介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽;以及金属层,金属层覆盖介质光栅的脊部的顶面和侧面,且暴露出介质光栅的沟槽的至少部分底部。本发明提供了一种新型结构的偏振薄膜,通过对介质光栅和金属层的结构进行上述优化设计,能够兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能,有利于广泛应用。此外,本发明还涉及一种上述偏振薄膜的制作方法以及包括上述偏振薄膜的光波导镜片及显示装置。

    太阳能电池及其制备方法
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116190465A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202111418131.8

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明提供一种太阳能电池及其制备方法。所述太阳能电池包括:太阳能电池模组;贴附于所述太阳能电池模组的一侧表面上的电极薄膜,所述电极薄膜包括:透明基层、透明压印层和形成于所述透明压印层内或所述透明压印层一侧表面的导电材料层,所述导电材料层与所述太阳能电池模组电性连接以形成所述太阳能电池模组的电极;其中,所述电极薄膜和所述太阳能电池模组通过层压贴合。这样得到的太阳能电池具备高透过率,光电转换效率高,同时该制备方法,可方便的进行批量生产,成本低。

    一种光学转移材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115723461A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202111005406.5

    申请日:2021-08-30

    Abstract: 一种光学转移材料的制备方法,包括:提供基膜;在所述基膜上涂布UV树脂涂层;用具有微纳结构的模具将微纳结构模压复制在所述UV树脂涂层上并进行UV固化,模压时在所述UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂;在所述UV树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底;剥离所述基膜。本发明提供的光学转移材料及其制备方法,通过模压时在UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂,使得UV树脂涂层与模具容易剥离,并且UV树脂涂层转移至基底时基膜剥离容易,从而制作简单,工艺性好,且基膜可循环利用,同时光学转移材料表面无基膜,环保易降解。

    微透镜阵列成像组件的制备方法

    公开(公告)号:CN114913558A

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202110179851.7

    申请日:2021-02-08

    Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法,包括:S1、提供微透镜阵列组件,微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元,若干微透镜单元形成微透镜阵列;S2、在基底的背面制备若干遮光部,遮光部由挡光材料形成,遮光部正对微透镜单元的位置布置;S3、在正面涂覆黑色光阻材料,黑色光阻材料为负性感光材料;S4、对背面进行紫外泛曝光;S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料;S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光,从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。

    一种投影幕布
    45.
    发明公开
    一种投影幕布 审中-实审

    公开(公告)号:CN114815489A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202110062212.2

    申请日:2021-01-18

    Abstract: 本发明提供一种投影幕布。所述投影幕布至少包括着色层、扩散层、菲涅尔透镜层中的一层、以及反射层;其中,菲涅尔透镜层为球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层,菲涅尔透镜层包括沿着一平面突起的若干环状凸起,所述若干环状凸起以环带排列,且沿着垂直于所述平面的截面,每个环状凸起的截面形状为三角形或多台阶形或自由面形,每个截面形状平行于所述平面的边宽度渐变,截面形状及其宽度的渐变,决定球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层的聚光特性;每个环状凸起表面具有散点微结构,反射层为金属层或金属合金层,且其采用电镀、蒸镀、溅射或涂布工艺制备。本发明提供的投影幕布表现出比现有投影幕布具有更高的亮度、以及更大的视角。

    一种具有斜侧壁的波导镜片及其制作方法

    公开(公告)号:CN114764193A

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202110039005.5

    申请日:2021-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种具有斜侧壁的波导镜片的制作方法,该方法包括:获取制备波导衬底材料的折射率n2;根据空气折射率n1和折射率n2推导出全反射临界角度CTIR;根据全反射临界角CTIR进而得到侧壁的全反射临界角CTIR;根据斜面角度d制备至少具有一斜侧壁的波导衬底;在波导衬底上制备具有微纳结构的功能区域。本发明还公开了一种具有斜侧壁的波导镜片,包波导衬底、设置在波导衬底上具有微纳结构的功能区域,波导衬底至少设有一斜侧壁,斜侧壁呈一定的斜面角度d。通过上述方法,可以快速地确定具有降低内部光线干扰的斜面的斜面角度d,从而方便具有斜侧壁的波导镜片的制作。

    显示装置及光波导镜片
    47.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112213855B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN201910622759.6

    申请日:2019-07-11

    Abstract: 本申请涉及一种显示装置及光波导镜片,属于显示设备技术领域,该显示装置包括:光波导镜片,包括多个功能性区域,多个功能性区域包括光线耦入区域;透明镜片,与光波导镜片中光线耦入区域对应的基底贴合;光线经透明镜片折射后入射至光波导镜片,并经光线耦入区域耦合入光波导镜片进行全反射传输;可以解决现有的光波导镜片的限制,人眼观看的图像偏离正角度较大,图像显示效果不佳;且大范围入射光的需求导致前端光学系统的结构复杂的问题;由于光线只需要在小角度范围内入射,因此,可以降低前端光学系统的结构复杂度;同时透明镜片的折射作用还可以改善光波导镜片耦出光线构成的图像偏离人眼观看图像时的正角度较大的情况。

    一种激光签注系统及其签注方法
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113857679A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202010620353.7

    申请日:2020-06-30

    Abstract: 本发明提供一种激光签注系统及其签注方法,所述签注系统包括控制系统、分别与所述控制系统通讯连接的打印及拍照联合机台、证卡翻转机台、激光打印装置、摄像装置和若干传感器,所述打印及拍照联合机台被配置的驱动证卡平移以到达或离开预定打印及拍照位置,所述证卡翻转机台被配置的驱动证卡平移到达或离开预定平移位置,且所述证卡翻转机台还被配置的在所述证卡到达预定平移位置时翻转证卡到达预定翻转位置,若干传感器分别被配置的检测证卡是否处于预定打印及拍照位置、预定平移位置和预定翻转位置,在预定打印及拍照位置,所述激光打印装置对证卡进行激光打印,所述摄像装置对所述证卡进行无遮挡拍照。本发明签注速度快、效率高、易于控制,且签注效果稳定性、准确性高。

    裸眼三维显示装置
    49.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112269271B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202011536267.4

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置,其包括:显示部件,其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列;和,视角调控器件,其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列,其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应,所述显示单元被分为多组,每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角,不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角,每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元,每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样,可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果,可再现全视差图像。

    薄膜处理系统和方法
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113766736A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202010486031.8

    申请日:2020-06-01

    Abstract: 本发明提供一种薄膜处理系统和方法。所述薄膜处理系统包括:第一主动辊,进入第一主动辊的薄膜带上包括沿薄膜带的长度方向上重复排布的第一图案,其中第一图案包括第一对位标识;上胶装置,其被配置的在薄膜带上形成胶层;第二主动辊,第二主动辊为辊面上设置有压印结构,所述第二主动辊的辊面压印在所述薄膜带的胶层上以在所述薄膜带的胶层上形成重复排布的第二图案,其中第二图案包括第二对位标识;对位检测装置,其检测薄膜带上的第一图案的第一对位标识和第二图案的第二对位标识的对位偏差;控制器,其被配置的基于得到的对位偏差调控第一主动辊和第二主动辊的转速,进而使得所述对位偏差收敛于预定偏差阈值范围。

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