公开(公告)号：CN101546116A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200910129752.7

申请日：2009-03-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 山口昇 ,  三好将之

IPC: G03F1/00

Abstract: 多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法。本发明的多色调光掩模的制造方法在透明基板(21)上分别形成遮光膜(22)以及透过曝光光的一部分的半透光膜(24)，并通过对各个膜实施规定的构图而形成含有遮光部、透过曝光光的一部分的半透光部以及透光部的转印图案，该制造方法的特征在于，对所述半透光膜(24)和所述遮光膜(22)分别实施基于湿蚀刻的构图，形成所述转印图案，对所述转印图案中半透光膜的至少一部分进行表面改质处理，改变所述半透光膜(24)的曝光光透过率变化，减小所述转印图案中存在的半透光部的透过率面内分布范围。

公开(公告)号：CN1677097A

公开(公告)日：2005-10-05

申请号：CN200510063771.6

申请日：2005-03-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林正明 ,  原督 ,  山口昇 ,  石川雄大

IPC: G01N21/956 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03F1/84 ,  G01N21/956

Abstract: 本发明提供一种通过使不匀缺陷清晰显现来高精度地检测不匀缺陷的图形不匀缺陷检查方法和装置。不匀缺陷检查装置(10)具有：照明装置(12)，朝在表面具有由单位图形规则排列而成的重复图形的芯片(55)的光掩模(50)照射光；以及受光器(13)，接受在上述光掩模的芯片中的重复图形的单位图形的边缘部发生的散射光并转换成受光数据；分析该受光数据，检测在重复图形发生的不匀缺陷；上述照明装置把从照明用光源发出的具有接近于平行光的方向性的光，例如平行度为2°以内的光，朝光掩模(50)的芯片(55)中的重复图形(51)照射。