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公开(公告)号：CN110147029B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201910348874.9
申请日：2013-10-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
IPC: G03F1/76 , G03F1/54 , H01L21/027
Abstract: 光掩模和光掩模的制造方法。光掩模在透明基板上具有用于形成第1薄膜图案的第1转印用图案，该光掩模的制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体的工序，该光掩模坯体是在透明基板上依次形成了半透光膜和遮光膜而得到的；以及第1转印用图案形成工序，使用光刻工序，根据半透光膜和遮光膜形成第1转印用图案，其中，第1转印用图案具有如下形状，该形状用于通过曝光形成电子器件中的第1薄膜图案，并且包含曝光时使用的曝光装置无法分辨的线宽的标记图案，所述形状是为了形成电子器件中的第2薄膜图案而能够通过追加加工去除由标记图案划定的第1转印用图案的一部分的形状。
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公开(公告)号：CN110967924A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910910496.9
申请日：2019-09-25
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 本发明涉及光掩模基板、其修正方法、制造方法和处理方法、光掩模的制造方法以及基板处理装置，能够不需要时间和工时对光掩模的缺陷修正，由此提高光掩模制造的生产效率和品质。该光掩模基板的修正方法具有：准备光掩模基板(10)的工序，该光掩模基板(10)在透明基板(100)的一个主表面上形成有用于形成转印用图案的光学膜(200)；和针对在光学膜(200)中产生的缺失缺陷形成修正膜的修正工序。修正工序中，将原料气体供给至光掩模基板(10)的形成有光学膜(200)的第1主表面中的缺失缺陷的位置附近，同时从光掩模基板(10)的第2主表面侧照射激光，利用透过了缺失缺陷的激光使原料气体发生反应，使修正膜堆积在第1主表面的缺失缺陷的位置。
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公开(公告)号：CN105223769B
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201510645264.7
申请日：2013-06-17
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供光掩模的制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法，在需要多次描绘的光掩模中准确地进行各区域的对准，能够抑制光刻工序的实施次数。所述制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在透明基板上层叠曝光光透过率彼此不同且由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的下层膜与上层膜，进而形成第1抗蚀剂膜而得到的；对第1抗蚀剂膜进行第1描绘，形成用于形成上层膜图案和划定下层膜图案的区域的暂定图案的第1抗蚀剂图案；对上层膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；在整面上形成第2抗蚀剂膜；对第2抗蚀剂膜进行第2描绘，形成用于形成下层膜图案的第2抗蚀剂图案；对下层膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；蚀刻去除暂定图案的第3蚀刻工序。
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公开(公告)号：CN107817648A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201710793919.4
申请日：2017-09-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 提供光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。能减少使用了光掩模的曝光工序中的杂散光的产生风险。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有对透明基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案，该转印用图案具有透光部、半透光部和遮光部，该制造方法具有：遮光膜图案形成工序，对透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案；半透光膜形成工序，在包含遮光膜图案的透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜，从而形成透光部；半透光膜去除工序，去除遮光膜图案上的半透光膜，在去除工序，在成为半透光部的区域形成抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案在半透光部和遮光部相邻的部分，在遮光部侧有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。
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公开(公告)号：CN105892226A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610307797.9
申请日：2013-10-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
IPC: G03F1/80 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供电子器件和显示装置的制造方法、光掩模及其制造方法。电子器件的制造方法具有以下工序：在基板上形成第1薄膜的工序；第1薄膜图案形成工序，对第1薄膜或形成在第1薄膜上的第1抗蚀剂膜实施使用了第1光掩模的第1曝光，由此将第1薄膜构图成为第1薄膜图案；在形成有第1薄膜图案的基板上形成第2薄膜的工序；第2薄膜图案形成工序，对第2薄膜或形成在第2薄膜上的第2抗蚀剂膜实施使用了第2光掩模的第2曝光，由此将第2薄膜构图成为形状与第1薄膜图案不同的第2薄膜图案，其中，第1光掩模具有第1转印用图案，并且第2光掩模是具有对第1光掩模具有的第1转印用图案实施追加加工而形成的第2转印用图案的光掩模。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105223769A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510645264.7
申请日：2013-06-17
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供光掩模的制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法，在需要多次描绘的光掩模中准确地进行各区域的对准，能够抑制光刻工序的实施次数。所述制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在透明基板上层叠曝光光透过率彼此不同且由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的下层膜与上层膜，进而形成第1抗蚀剂膜而得到的；对第1抗蚀剂膜进行第1描绘，形成用于形成上层膜图案和划定下层膜图案的区域的暂定图案的第1抗蚀剂图案；对上层膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；在整面上形成第2抗蚀剂膜；对第2抗蚀剂膜进行第2描绘，形成用于形成下层膜图案的第2抗蚀剂图案；对下层膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；蚀刻去除暂定图案的第3蚀刻工序。
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公开(公告)号：CN101900932B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010189816.5
申请日：2010-05-26
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 本发明提供多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法。更加精密地控制在被转印体上形成的抗蚀剂图案的级差形状。多色调光掩模在透明基板上形成有包含遮光部、透光部、第1半透光部和第2半透光部在内的转印图案，其中，第1半透光部针对曝光光的透过率小于第2半透光部针对曝光光的透过率，对透过第1半透光部的曝光光与透过第2半透光部的曝光光之间的相位差进行控制，以使由透过第1半透光部的曝光光与透过第2半透光部的曝光光之间的干涉而形成的光强度为透过第1半透光部的曝光光的强度以上。
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公开(公告)号：CN101937169A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010221202.0
申请日：2010-06-30
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供能够通过良好的浸湿来形成均匀抗蚀膜的光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置。本发明所述的光掩模坯料的制造方法包括：利用涂布装置所具备的喷嘴(22)的毛细管现象使抗蚀液(21)上升，使上升后的抗蚀液(21)浸湿基板(10)的朝向下方的被涂布面(10a)，并使喷嘴(22)和基板(10)相对移动而在被涂布面(10a)形成抗蚀膜，其中，当进行浸湿时，使喷嘴的一端比另一端更接近被涂布面，由此使所述喷嘴内的所述涂布液在所述喷嘴的一端最初浸湿被涂布面，并以所述最初浸湿的点作为浸湿起点，遍及一定长度的喷嘴的全长进行浸湿作业。
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公开(公告)号：CN113009777A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202110239537.3
申请日：2017-05-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 本发明提供光掩模及显示装置的制造方法。在制造具有包括遮光部、半透光部及透光部的转印用图案的光掩模时，准备在透明基板(1)上层叠了半透光膜(2)、中间膜(3)及遮光膜(4)而成的光掩模坯体，通过蚀刻将成为遮光部的区域以外的区域的遮光膜(4)去除，然后形成抗蚀剂膜(6)。接着，对抗蚀剂膜(6)进行描画及显影而形成了抗蚀剂图案(6a)，然后通过蚀刻将半透光膜(2)去除。半透光膜(2)和遮光膜(4)都由Cr类材料形成，在将与透光部及半透光部分别相邻的遮光部设为中间遮光部时，在抗蚀剂图案形成工序中形成具有开口的抗蚀剂图案(6a)，该开口的尺寸相对于与中间遮光部相邻的透光部的设计尺寸A(μm)，在与中间遮光部相邻的边缘侧每一侧增加了裕量α(μm)。
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公开(公告)号：CN107817648B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201710793919.4
申请日：2017-09-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 提供光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。能减少使用了光掩模的曝光工序中的杂散光的产生风险。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有对透明基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案，该转印用图案具有透光部、半透光部和遮光部，该制造方法具有：遮光膜图案形成工序，对透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案；半透光膜形成工序，在包含遮光膜图案的透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜，从而形成透光部；半透光膜去除工序，去除遮光膜图案上的半透光膜，在去除工序，在成为半透光部的区域形成抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案在半透光部和遮光部相邻的部分，在遮光部侧有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。
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