电解铜箔及电解铜箔的制造方法

    公开(公告)号:CN103429793A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201280016134.1

    申请日:2012-03-28

    Inventor: 古曳伦也

    CPC classification number: H01M4/661 C25D1/04 C25D5/48 C25D7/06 C25D11/38

    Abstract: 本发明的目的在于提供常态抗拉力高、热历史后的抗拉力降低小、且铜箔中的杂质浓度少的电解铜箔及电解铜箔的制造方法,特别是提供电解铜箔,其中,铜箔中的硫浓度为10质量ppm以上50质量ppm以下,相对于利用扫描透射型电子显微镜进行的百万倍观察所获得的STEM图像形成10nm间隔的晶格,以各晶格的交点作为测定点测定硫浓度时,存在与铜箔中的硫浓度相比、硫浓度增高的测定点。

Patent Agency Ranking