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公开(公告)号：CN101523298B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200780037460.X
申请日：2007-10-22
Applicant: 安集微电子(上海)有限公司
Abstract: 一种光刻胶清洗剂包括缓蚀剂和溶剂，其中缓蚀剂包括两类化合物：一类为烷基醇单芳基醚类化合物，另一类选自酚类化合物，羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物，酸酐、聚酸酐类化合物和/或膦酸、膦酸酯类化合物。
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公开(公告)号：CN101755324B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200880100170.X
申请日：2008-07-03
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: H01L21/304 , C11D7/32 , C11D7/34 , C23G1/04 , H01L21/3205 , H01L21/768
CPC classification number: C23G1/103 , C11D3/0073 , C11D3/28 , C11D3/33 , C11D7/10 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3245 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D11/0047 , C23G1/06 , H01L21/02063 , H01L21/02068
Abstract: 本发明提供了一种清洗和防腐用组合物，其用于具有包含铜的金属布线的半导体元件等的制造工序，其中防腐剂成分包含诸如吡唑、3，5-二甲基吡唑之类的吡唑衍生物、诸如1，2，4-三唑之类的三唑衍生物、诸如亚氨基二乙酸、乙二胺二丙酸盐酸盐之类的氨基羧酸类、诸如二异丙基二硫醚、二乙基二硫醚之类的二硫醚化合物中的至少一种，清洗剂成分为氟化铵、氟化四甲基铵、乙酸铵、乙酸、乙醛酸、草酸、抗坏血酸、1，2-二氨基丙烷和二甲基乙酰胺中的至少一种。另外，本发明提供了一种使用清洗和防腐用组合物的半导体元件等的制造方法。
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公开(公告)号：CN100564600C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200680009354.6
申请日：2006-05-10
Applicant: 亨克尔两合股份公司
CPC classification number: C23F11/04 , C11D1/72 , C11D3/0073 , C11D3/0084 , C11D3/2031 , C11D3/2072 , C11D3/3719 , C23G1/06 , C23G1/061 , C23G1/08
Abstract: 包含以下物质的反应产物、可用于清洗金属表面的酸性清洗溶液中的、优选储存稳定的含水腐蚀抑制剂组合物：至少一种松香胺组分、至少一种非易燃性液体酮组分、至少一种羧酸组分、至少一种低聚甲醛组分和水；由其制备的含水酸性清洗剂；和它们的使用方法。本发明的腐蚀抑制剂通过一种简单的方法制备，该方法减少了毒性和/或易燃性原料、共产物、残余反应物和氯化物离子的存在，同时在含水酸性清洗剂中提供酸抑制性。
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公开(公告)号：CN101389707A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200780006335.2
申请日：2007-02-01
Applicant: 汉高股份及两合公司
CPC classification number: C08G73/02 , C08G12/06 , C08G73/0213 , C11D1/44 , C11D3/0073 , C11D3/042 , C11D3/164 , C11D3/2075 , C11D3/3703 , C11D11/0029 , C23G1/06 , C23G1/08 , C23G1/10 , C23G1/125
Abstract: 提供了酸抑制剂浓缩物，其含有水，至少一种聚氨基－醛树脂例如季铵化的聚乙烯聚胺－乙二醛树脂，以及至少一种选自炔醇、乙氧基化脂肪胺、乙氧基化脂肪胺盐和释放醛的化合物(例如六亚甲基四胺)的化合物。当与含水酸结合时，这些浓缩物形成了有用的金属清洁和酸洗溶液，其中当与金属表面接触时，这些溶液从金属表面有效地去除水垢、污渍和其他沉积物，而对于含水酸对金属本身的侵害和腐蚀显示出减少的趋势。
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公开(公告)号：CN101169598A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200610117668.X
申请日：2006-10-27
Applicant: 安集微电子(上海)有限公司
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，包含缓蚀剂和溶剂，其特征在于所述的缓蚀剂包含两类化合物：一类为烷基醇单芳基醚类化合物，另一类选自酚类化合物，羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物，酸酐、聚酸酐类化合物和/或膦酸、膦酸酯类化合物。这种光刻胶清洗剂对于二氧化硅、Cu(铜)等金属以及低k材料等具有良好的防腐蚀性，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1646732A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN02828796.7
申请日：2002-08-19
Applicant: 伊默克化学科技股份有限公司
IPC: C23G1/06
CPC classification number: H01L21/02063 , C11D3/2075 , C11D3/2082 , C11D3/2086 , C11D3/3472 , C11D7/265 , C11D7/34 , C11D11/0047 , C23G1/06 , G03F7/42 , H01L21/02071
Abstract: 一种清洗液，为由第一化合物、第二化合物及水所构成的混合液。此清洗液可在有效地移除金属氧化物的同时，防止金属表面受到腐蚀。另外，此清洗液也可有效地同时移除有机及无机残留物。
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公开(公告)号：CN109182848A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201811178564.9
申请日：2018-10-10
Applicant: 东莞市闻誉实业有限公司
CPC classification number: C22C21/00 , C23G1/06 , C23G1/063 , C23G1/065 , C23G1/068 , C23G1/125 , C25D11/14 , C25D11/16 , C25D11/243 , C25D11/246
Abstract: 本发明涉及一种铝合金材料及其压铸件的阳极氧化工艺，铝合金材料包括以下质量含量的组分：硅0～0.5％；锰1％～2％；镍0.15％～0.2％；铁0.2％～0.4％；微量金属元素0.2％～0.4％；铝余量。通过调配铝合金材料中的元素含量，使压铸件可以做彩色阳极氧化，即通过阳极氧化在铝合金材料的表面可以呈现多种颜色，色彩丰富，且上色效果良好，产品的表面效果不会有发黑、脏污，并多次返氧化不会出沙孔，彩色膜附着力佳，不易脱落，产品的直通率高。
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公开(公告)号：CN109136945A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811171064.2
申请日：2018-10-09
Applicant: 马鞍山拓锐金属表面技术有限公司
Inventor： 洪光日
Abstract: 本发明公开了一种水基型带除铁锈和铜锈功能的清洗剂及其制备方法，属于金属清洗剂技术领域，本发明选用优良表面活性剂，在中高温温度下清洗能力优良，选用的无机酸和有机酸，对钢铁焊接中产生的氧化物及助焊剂清洗干净，采用特殊有机酸生成的皮膜，清洗后钢表面具有一定的防锈性，且清洗后钢板表面没有明显的残留物或异物质。
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公开(公告)号：CN108468054A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201810364610.8
申请日：2018-04-23
Applicant: 河南宗源环保科技有限公司
Abstract: 本发明属于化工技术领域，具体是一种无酸雾除污除油金属除锈剂，主要特点在于对现有盐酸金属除锈剂的组方加以较大改进，由一定重量百分比的磷酸、油酸、硫酸、草酸、丁醇、六次甲基四胺、三乙醇胺、OP－10和水制备而成。与现有技术相比，具有不产生酸雾，无异味、使用安全，用途扩大，能除锈、除油污和除水垢，废液可以回收利用，减少废物排放，减小环境污染，社会经济效益好的显著优点。
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