离子源供气管路及其安装方法

    公开(公告)号:CN112879806A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110071546.6

    申请日:2021-01-19

    Abstract: 本申请涉及一种离子源供气管路及其安装方法,所述离子源供气管路,包括:依次连接第一管路、气体流量计、第二管路、截止阀以及第三管路;其中,所述第一管路连接气体源,所述第三管路连接真空室;还包括连接在所述第一管路上的清洁阀,以及连接在所述清洁阀与第三管路之间的第四管路;所述清洁阀在将所述气体源安装到供气管路时处于打开状态,并由所述真空室对所述第一管路进行清洁;并在清洁后处于关闭状态;该技术方案,避免了第一管路中的空气影响工作气体的纯度;在安装过程中,先通过清洁阀来清洁第一管路,然后再完成安装流程,有效地避免了有毒有害气体泄露,确保了安装过程的安全。

    直流阴极中和器
    52.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112908818B

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202110085601.7

    申请日:2021-01-22

    Abstract: 本申请涉及一种直流阴极中和器,包括:电离腔室,阴极靶材,维持极以及磁铁组件;其中,维持极设于电离腔室上部,连接维持电源;阴极靶材设于电离腔室底部,连接电离电源,且阴极靶材与维持极保持绝缘隔离;磁铁组件设于阴极靶材底部,用于在电离腔室产生强磁场;在工作中,电离腔室通入工作气体,磁铁组件在电离腔室的电离区域产生强磁场,电离区域在强磁场和电场的共同作用下对工作气体进行电离产生等离子体;等离子体中的负电子在维持极的作用下,通过设置在电离腔室的电子输出口进行输出;该技术方案,结构简单,维护方便,使用强磁场提高了电离效率;而且阴极靶材可以使用多种金属,可以使用耐高温稀有金属,对产品不产生污染等不利影响。

    调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机

    公开(公告)号:CN116288230A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211600718.5

    申请日:2022-12-12

    Abstract: 本申请涉及一种调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机,调速阀门结构包括:真空密封的阀门腔体,设于阀门腔体内的真空阀板,以及设于阀门腔体外部的驱动机构和间接传动装置;阀门腔体上设有抽气口,其中,抽气口两侧面上设有上连接件和下连接件;上连接件用于与真空腔室密封连接,下连接件用于与分子泵密封连接;驱动机构连接间接传动装置,间接传动装置与真空阀板通过非接触方式连接;驱动机构驱动间接传动装置进行运动,间接传动装置以非接触方式驱动真空阀板进行移动,调整抽气口的开度大小;该技术方案具有更高的真空度调整速度,减少了需要真空密封的部件,降低了整体设备的成本,并提升了真空腔室的真空密封效果。

    离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室

    公开(公告)号:CN113793791A

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202111083180.0

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。

    等离子体源及其启动方法
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113764252A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111081910.3

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。

    离子源的电源控制方法、系统及离子源装置

    公开(公告)号:CN111933503B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202010802515.9

    申请日:2020-08-11

    Abstract: 本申请涉及一种离子源的电源控制方法、系统及离子源装置,所述方法包括:根据电源系统输出的总电流值确定各个霍尔离子源的分支电流值;在各个所述霍尔离子源和中空阴极运行中,分别检测各个所述霍尔离子源的电流传感器反馈的实际电流值;将各个所述霍尔离子源对应的实际电流值与其设定的分支电流值的进行比对并计算气体流量控制参数;依据所述气体流量控制参数调整输入霍尔离子源的气体流量,以控制相应霍尔离子源的实际电流值与其设定的分支电流值相匹配。本申请实现了对多霍尔离子源工作时电流控制,能够对各个霍尔离子源的电流进行精确分配,优化了电源控制效果,提升了各个霍尔离子源的工作效果。

    离子源电场结构及离子源装置

    公开(公告)号:CN111710580B

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202010688577.1

    申请日:2020-07-16

    Abstract: 本申请涉及一种离子源电场结构及离子源装置,离子源电场结构包括:包括设于外壳内的阳极部件,在所述阳极部件与外壳之间还设置有一个隔离金属层;所述隔离金属层为与所述阳极部件相对应的环形设计,与所述阳极部件和外壳保持绝缘状态;所述隔离金属层通过所述阳极部件感应一电压的电场,通过该电场对离子源发出的离子束的发射角度进行控制。本申请的技术方案,通过在阳极部件与外壳之间设置的与阳极部件相对应的环形设计的隔离金属层;隔离金属层处于悬浮电位,通过阳极部件感应一电压的电场,通过该电场对离子源发出的离子束的发射角度进行控制;该电场结构可以有效控制离子源的离子束发射角范围,提高了离子源发射离子束的集中效果。

    离子源安装结构及离子源装置

    公开(公告)号:CN111834186B

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202010850672.7

    申请日:2020-08-21

    Abstract: 本申请涉及一种离子源安装结构和离子源装置,应用于离子源装置上,所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极;所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处,为所述霍尔离子源提供中和电子;该安装结构包括:离子源底座、角度调节机构和基座;所述霍尔离子源安装在离子源底座上,所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上,所述离子源底座通过角度调节机构进行转动,以调整霍尔离子源的发射角度。通过本申请的技术方案,可以根据镀膜需求来调整霍尔离子源的角度,从而可以提升离子源覆盖效果,提高使用效率。

    等离子体源及其启动方法
    60.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113764252B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202111081910.3

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。

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