-
公开(公告)号:CN102656516A
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN201080056696.X
申请日:2010-12-03
Applicant: 凸版印刷株式会社 , 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/56 , G03F1/80 , H01L21/027
Abstract: 在含有铬、在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的遮光膜(13)之上,层叠不含有铬、在氟类干式蚀刻且含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的膜(14)。
-
公开(公告)号:CN102402117A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201110348752.3
申请日:2011-09-09
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料和制造方法、光掩模、光图案曝光方法和过渡金属/硅基材料膜的设计方法。本发明特别涉及一种光掩模坯料,其具有过渡金属/硅基材料的膜,该过渡金属/硅基材料包含过渡金属、硅、氧和氮,具有至少3原子%的氧含量,并满足式:4×CSi/100-6×CM/100>1,其中CSi是以原子%计的硅含量和CM是以原子%计的过渡金属含量。
-
公开(公告)号:CN101968605A
公开(公告)日:2011-02-09
申请号:CN201010270048.6
申请日:2010-05-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/26 , G03F1/14 , G03F1/30 , G03F1/32 , G03F1/80 , H01L21/31116 , H01L21/31122 , H01L21/31138
Abstract: 本发明披露了一种对形成于衬底上的加工层的干蚀刻方法,包括步骤:在形成于衬底上的加工层上形成硬掩模层,在该硬掩模层上形成抗蚀剂图形,通过使用该抗蚀剂图形而实施的第一干蚀刻将该抗蚀剂图形转移至所述硬掩模层,并且通过使用以上转移至所述硬掩模层得到的硬掩模图形而实施的第二干蚀刻对所述加工层进行图形化,其中通过所述第一干蚀刻对所述硬掩模层进行图形化后,在所述第一干蚀刻已经实施过的蚀刻装置中,通过改变干蚀刻气体中副成分的浓度而不改变干蚀刻气体中主成分的浓度,利用所述第二干蚀刻对所述加工层进行图形化。
-
公开(公告)号:CN101261440A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200710146403.7
申请日:2007-03-09
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模基板,其包括:设置在透明衬底上,耐氟干法蚀刻并且可通过氯干法蚀刻去除的蚀刻截止膜、设置在蚀刻截止膜上,并且至少包括一层由过渡金属/硅材料构成的层的光屏蔽膜,和设置在光屏蔽膜上的减反射膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时,由图案密度依赖性所引起的图案尺寸变化被减小,使得能够以高精确度制作光掩模。
-
公开(公告)号:CN101010631A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200580029571.7
申请日:2005-08-10
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 凸版印刷株式会社
IPC: G03F1/08 , G03F1/14 , C23F4/00 , H01L21/027
Abstract: 在光掩模基板11的一个主面上具备金属膜作为遮光层12,所述金属膜不被含氧的氯类干蚀刻((Cl+O)类干蚀刻)实质性地蚀刻、而且可以被不含氧的氯类干蚀刻(Cl类干蚀刻)及氟类干蚀刻(F类干蚀刻)蚀刻。然后在该遮光层12上具有金属化合物膜作为防反射层13,所述金属化合物膜不会被不含氧的氯类干蚀刻(Cl类)实质性地蚀刻、而且可以被含氧的氯类干蚀刻((Cl+O)类)或氟类干蚀刻(F类)中的至少一种蚀刻。
-
公开(公告)号:CN107710465B
公开(公告)日:2020-11-03
申请号:CN201680035155.6
申请日:2016-05-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明是一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其具有负极活性物质颗粒,所述负极活性物质颗粒含有在表面具有碳被膜的硅化合物SiOx,其中,0.5≤x≤1.6,所述非水电解质二次电池用负极活性物质的特征在于,碳被膜在利用拉曼光谱分析所获得的拉曼光谱中,在拉曼位移为2600cm‑1至2760cm‑1的范围内具有G’频带峰,在拉曼位移为1500cm‑1至1660cm‑1的范围内具有G频带峰,并且,G’频带峰的强度IG’与G频带峰的强度IG满足0<IG’/IG≤0.6。据此,本发明提供一种负极活性物质,其具有高容量维持率与初次效率。
-
公开(公告)号:CN106797026B
公开(公告)日:2020-04-17
申请号:CN201580053966.4
申请日:2015-07-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明是一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其具有负极活性物质颗粒,所述负极活性物质颗粒含有硅化合物SiOx,其中,0.5≤x≤1.6,所述非水电解质二次电池用负极活性物质的特征在于,负极活性物质颗粒的至少一部分被由包含碳的物质构成的碳被膜覆盖,所述碳被膜的密度为1.2g/cm3以上且1.9g/cm3以下,并且,负极活性物质颗粒的根据使用氮气的吸附解吸等温线测定所获得的吸附解吸等温线具有IUPAC分类中的II类或III类的特征。由此,可以提供一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其可以增加电池容量,并提升循环特性及电池初始效率。
-
公开(公告)号:CN106537663B
公开(公告)日:2020-01-24
申请号:CN201580038214.0
申请日:2015-06-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明是一种非水电解质二次电池用负极材料,其具有负极活性物质颗粒,所述负极材料的特征在于,负极活性物质颗粒由用SiOx表示的硅化合物以及碳覆盖层构成,其中,0.5≤x≤1.6,所述碳覆盖层覆盖该硅化合物表面且由碳成分构成,负极活性物质颗粒包含具有鳞石英结构的SiO2成分,且在X射线衍射中,在21.825°附近获得的衍射峰的半值宽度2θ为0.15°以下。由此,本发明提供一种非水电解质二次电池用负极材料,其能够增加电池容量并提高循环特性和初始充放电特性。
-
公开(公告)号:CN105895892B
公开(公告)日:2019-05-28
申请号:CN201610086168.8
申请日:2016-02-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01M4/485 , H01M4/62 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M4/366 , H01M4/364 , H01M4/386 , H01M4/483 , H01M4/485 , H01M4/587 , H01M4/625 , H01M10/052 , H01M2004/021 , H01M2004/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其能够使电池容量增加,并且提高循环特性、电池初始效率。为了解决上述课题,本发明提供一种非水电解质二次电池用负极活性物质,其具有含硅化合物(SiOx:0.5≤x≤1.6)的负极活性物质颗粒,其中,负极活性物质颗粒的至少部分表面具有碳被膜,在将碳被膜从负极活性物质颗粒离析并测量的X射线衍射光谱中,2θ=25.5°的峰的半值全宽为1.5°以上且4.5°以下,并且在将碳被膜从负极活性物质颗粒离析并测量的拉曼光谱中,在1330cm‑1与1580cm‑1处具有散射峰,散射峰的强度比I1330/I1580满足0.7<I1330/I1580<2.0。
-
公开(公告)号:CN105603392B
公开(公告)日:2019-04-02
申请号:CN201510796426.7
申请日:2015-11-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C16/458 , H01M4/48 , H01M10/0525
Abstract: 本发明提供一种通过抑制炉芯管的内部产生的粉末堵塞能大量生产碳膜的量及结晶性等的偏差少、高容量且循环性高的非水电解质二次电池用负极活性物质的旋转式筒状炉。为此,本发明提供一种旋转式筒状炉,其特征在于,具备:可以旋转的筒状炉芯管,具有用于导入由硅化合物(SiOx:0.5≤x≤1.6)组成的颗粒的入口端、与用于排出已形成碳膜的颗粒的出口端;以及,加热室,包含用于加热炉芯管的加热器;并且,炉芯管由位于包含加热器的加热室的内部的加热部与位于加热室外的非加热部组成,炉芯管的全炉长度A与加热部的长度B满足0.4≤B/A<1,并且从炉芯管的出口端到加热部为止的距离C与全炉长度A满足0.04≤C/A≤0.35。
-
-
-
-
-
-
-
-
-