-
公开(公告)号：CN108780162A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780014466.9
申请日：2017-03-16
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。
-
公开(公告)号：CN108700679A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780010501.X
申请日：2017-02-15
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法。本发明的光学部件的制造方法包括：工序(1)，涂覆下层树脂以及上层树脂；工序(2)，在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从基材侧依次层叠的状态下，从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂，形成在表面具有凹凸构造的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，形成聚合物层，上述下层树脂中的酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g，测量温度范围‑50～250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下，并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
-
公开(公告)号：CN108495720A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201780005426.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。
-
公开(公告)号：CN108138331A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680060184.8
申请日：2016-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。
-
公开(公告)号：CN108026298A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680053976.2
申请日：2016-08-24
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: A61L2/00 , A61L9/00 , B32B3/30 , B32B27/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08J5/18
Abstract: 一种具备具有多个凸部(35p)、(36p)的表面的合成高分子膜(35)、(36)，当从合成高分子膜的法线方向观察时，多个凸部的二维尺寸处于超过20nm且小于500nm的范围内，且表面具有杀菌效果，所述合成高分子膜(35)、(36)含有氟元素，氟含量在厚度方向上不固定，具有凸部侧的氟含量高于凸部侧的相反侧的分布。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107635740A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680033863.6
申请日：2016-06-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 脱模处理方法包含如下步骤：(a)准备含有具有脱模性的氟系化合物与溶剂的脱模剂、及表面具有多孔氧化铝层(14)的圆筒状或圆柱状的模具(100)；(b)向模具的表面赋予脱模剂；及(c)使步骤(b)中赋予的脱模剂干燥。步骤(c)中包含对模具的表面生成在与模具的轴(100z)平行的方向流动的气流(105)的步骤、及使模具以模具的轴为中心旋转的步骤。
-
公开(公告)号：CN107219569A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201710440041.6
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
-
公开(公告)号：CN102803577B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180014427.1
申请日：2011-03-22
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G02B1/118 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , C25D11/04 , C25D11/045 , C25D11/12 , C25D11/24
Abstract: 本发明的目的在于提供抑制了凹坑(凹陷)的形成、在表面具有多孔氧化铝层的模具的制造方法，本发明的蛾眼用模具的制造方法是在表面具有多孔氧化铝层(14)的模具的制造方法，包含：准备具有铝基材(12)和在铝基材(12)的表面沉积的纯度为99.99质量％以上的铝膜(18)的模具基材(10)的工序；对铝膜(18)的表面(18s)进行阳极氧化，由此形成具有多个微细的凹部(14p)的多孔氧化铝层(14)的工序；以及使多孔氧化铝层(14)与蚀刻液接触，由此使多孔氧化铝层(14)的多个微细的凹部(14p)扩大的工序。
-
公开(公告)号：CN102859048B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180020797.6
申请日：2011-04-01
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G02B1/11 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29D11/0048 , B29D11/00865 , C23F1/04 , C25D11/10 , C25D11/12 , C25D11/24 , G02B1/118
Abstract: 本发明的目的在于在模具的制造中抑制铝层的粘接性的降低，本发明的模具的制造方法包含：工序(a)，准备模具基材(10)；工序(b)，形成多孔氧化铝层(19)，上述多孔氧化铝层(19)具有规定多个微细的凹部(19p)的多孔层(19a)和设置在多个微细的凹部(19p)各自的底部的阻挡层(19b)；以及工序(c)，在工序(b)后进行蚀刻，使多孔氧化铝层(19)的多个微细的凹部(19p)扩大，在工序(c)中，以多个微细的凹部(19p)的平均深度增加但不超过进行蚀刻前的阻挡层(19b)的平均厚度的1/7的方式进行蚀刻。
-
公开(公告)号：CN103154329A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180048346.3
申请日：2011-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 林秀和
CPC classification number: C25D1/08 , C23C14/0005 , C23C14/185 , C23C14/5853 , C25D11/04 , C25D11/10 , C25D11/12 , C25D11/24
Abstract: 本发明的阳极氧化膜的制造方法包含：工序（a），准备层叠结构体（10），层叠结构体（10）具备：基材（12）；牺牲层（16），其形成于基材（12）上，含有铝；以及铝层（18），其形成于牺牲层（16）的表面；工序（b），对铝层（18）部分地进行阳极氧化，由此形成具有多个微细的凹部（22a）的多孔氧化铝层（20a）；以及工序（c），在工序（b）后将多孔氧化铝层（20a）从层叠结构体分离。根据本发明，能比以往更简便地制造具有多孔氧化铝层的自我支撑型的阳极氧化膜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
73
records
(took 0.023 seconds)
