-
公开(公告)号：CN112799285B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
-
公开(公告)号：CN110119071B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201810117030.9
申请日：2018-02-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。
-
公开(公告)号：CN109932869B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201711375723.X
申请日：2017-12-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。
-
公开(公告)号：CN112799285A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
-
公开(公告)号：CN112799237A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN202110031925.2
申请日：2021-01-11
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/26
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置。所述裸眼三维显示装置包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；视角调控器，其包括由多个微棱镜块阵列排布而成的微棱镜块阵列。微棱镜块阵列的微棱镜块被分成多组，各个微棱镜块的第一夹角和第二夹角的角度组合被事先设置以使得：同一组微棱镜块的出射光线汇聚成同一个视点，不同组微棱镜块的出射光线汇聚成不同视点。这样，通过设置各个微棱镜块的倾斜面的角度来形成多个不同的视点，从而实现了在不同的视角下观看到不同的三维显示效果。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111999984A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201910448289.6
申请日：2019-05-27
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种光刻方法，用于将待处理图形进行无掩模版的光刻，所述方法包括如下步骤：S1：将所述待处理图形进行K次拆分，形成K幅子图形；S2：预设分割宽度M，分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带；S3：将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组，形成n条新条带；S4：光刻所述新条带，其中，每完成一条新条带光刻，步进一条所述子条带的宽度M，进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组，实现子条带分辨率的增强，从而达到光刻分辨率增强的效果。
-
公开(公告)号：CN111722469A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010736318.1
申请日：2020-07-28
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种导光板光刻设备，包括底座、设置在所述底座上用于放置导光板的平台和用于光刻所述导光板的光刻机构，以及用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动且运动时所述光刻机构用于光刻的光束始终与所述平台垂直的导向机构，所述导向机构分别连接所述光刻机构和所述平台，所述导向机构包括用于实现所述光刻机构沿第一方向运动的第一导向机构和用于实现所述光刻机构沿第二方向运动的第二导向机构。通过上述结构，使得光刻后网点形貌不会出现异常现象，极大地提高了产品的质量。
-
公开(公告)号：CN111123609A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292771.7
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，彩色结构层包括若干横向水平排布的红色、绿色、蓝色滤光片，彩色结构层设置在黑色结构层一侧；第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有若干微纳结构。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，且其透明电极之间电场分布均匀，具有较佳的显示效果。
-
公开(公告)号：CN111123607A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292753.9
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列层和第二基板，电致变色像素阵列层包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，电致变色单元包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层以及第二电极；第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。本发明以黑色电致变色像素层形成电致变色单元，能实现黑色、灰色和白色显示，在电致变色像素阵列中的电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备，同时具有较佳的显示效果。
-
公开(公告)号：CN111123606A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811304728.8
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，所述黑色结构层包括设置在所述第一基板上的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，所述彩色结构层包括若干纵向叠加排布的青色结构单元、黄色结构单元及品红色结构单元，所述彩色结构层设置在所述黑色结构层一侧。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，且结构简单，易于制备，节约了生产成本、提高了产品质量。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
114
records
(took 0.054 seconds)
