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公开(公告)号：CN116149103A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202111349254.0
申请日：2021-11-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种具有导电网格的衬底、电致变色器件及其制备方法。具有导电网格的衬底，包括衬底以及位于所述衬底表面的导电网格，所述导电网格由多个网格单元构成，各所述网格单元至少一条边为非直线边。电致变色器件，包括第一电极衬底、第二电极衬底以及位于所述第一电极衬底、第二电极衬底之间的电致变色层，所述第一电极衬底、第二电极衬底为如上所述的具有导电网格的衬底。本发明提供的具有导电网格的衬底、电致变色器件及其制备方法，通过各网格单元至少一条边为非直线边，使得蜷缩的非直线在拉伸时可以实现一定程度的扩张，不会损伤自身结构，从而可以提升拉伸性能。
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公开(公告)号：CN116088238A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202111307424.9
申请日：2021-11-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种像素化电致变色显示器件，包括上基板、下基板、隔离件、电致变色层，所述隔离件位于所述上基板与下基板之间，具有多个挡墙形成周期性排列的通槽，所述上基板、下基板与隔离件紧密配合使所述通槽形成多个密封的收容空间，所述电致变色层位于所述收容空间中。一种如上所述的像素化电致变色显示器件的制作方法，包括：提供所述下基板；在所述下基板上形成所述隔离件；在所述收容空间中填充电致变色材料，形成所述电致变色层；将所述上基板贴合于所述隔离件。本发明制备过程简单，且可以制备出百纳米大小的像素点，精度高；并且隔离件的挡墙能阻挡像素点与像素点之间的串扰，电气性能好。
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公开(公告)号：CN115903222A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202110895582.4
申请日：2021-08-05
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种增强现实抬头显示装置，包括图像单元、光波导单元和反射单元，图像单元用于产生图像光线且引导图像光线入射至光波导单元的表面，光波导单元将图像光线传导并朝向反射单元射出，反射单元将图像光线反射至人眼并产生虚像，光波导单元包括至少一层光波导，光波导包括至少两个光连接的光波导部，相邻两个所述光波导部表面所在的平面具有夹角，从而相比于平面型AR‑HUD，其具备更小的表面积、更合理的空间分布且更大的前装容差，该增强现实抬头显示装置具备大视场、小体积、远虚像距离的性能、且结构简单，同时适用于大多数挡风玻璃，具备高的量产普适性。
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公开(公告)号：CN115674924A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202110864986.7
申请日：2021-07-29
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B41M5/03
Abstract: 一种深纹路图案转移膜、转移材料及其制备方法，深纹路图案转移膜包括基膜、UV树脂涂层及位于所述基膜与UV树脂涂层之间的化学层，所述化学层材料为水性聚氨酯体系、水性聚酯体系、水性环氧体系以及水性丙烯酸体系的一种或多种，所述UV树脂涂层厚度为1～50um，是所述化学层厚度的5～15倍，所述UV树脂涂层采用的UV树脂固化收缩率为1％～10％。本发明提供的深纹路图案转移膜、转移材料及其制备方法，解决了UV树脂涂层与基膜及模具之间粘接力大小的问题，并且操作简单，工序简便成本低，制得的深纹路图案转移材料微纳结构深度大，具有极强的表现力和防伪度，转移至基底后基膜可剥离循环利用，转移材料表面无基膜，环保易降解。
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公开(公告)号：CN112987501B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115497403A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211139010.4
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种多色立体动态图像的可签注防伪证卡及其制备方法。本发明提供的可签注防伪证卡包括基层、设置于基层一侧的第一签注层、设置于第一签注层上的第一复合层、设置于基层另一侧的第二签注层和设置于第二签注层上的第二复合层；本发明提供的制备方法，通过制备第一复合层，制备第二复合层，将第一复合层、第一签注层、基层、第二签注层、第二复合层进行加热层压，制得可签注防伪证卡。防伪证卡的纹理通过精密光刻，可实现动态、浮雕等极具光泽感的多色立体动态图像效果，防伪效果佳；防伪证卡的双面设置紧密精密微结构防伪效果，更能实现有效防伪，并且提高防伪证卡的表现力。
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公开(公告)号：CN115447315A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202110644183.0
申请日：2021-06-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种装饰材料及其制作方法，所述装饰材料包括依次连接的微透镜阵列层、TPU基材层、微图文层，所述制作方法包括：S1，提供TPU基材与第一支撑膜，将所述TPU基材与所述第一支撑膜进行复合，得到复合支撑层；S2，在复合支撑层的TPU基材面涂布第一树脂层，通过第一模具将微透镜阵列微结构/微图文微结构复制在所述第一树脂层上并固化；S3，保留所述第一模具或剥离所述第一模具再在所述第一树脂层上固设第二支撑膜；S4，剥离所述第一支撑膜；S5，在剥离所述第一支撑膜后的TPU基材面上涂布第二树脂层，通过第二模具将微图文微结构/微透镜阵列微结构复制在所述第二树脂层上并固化；S6，剥离所述第二模具；S7，剥离所述第一模具或所述第二支撑膜。
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公开(公告)号：CN115447305A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202110643315.8
申请日：2021-06-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B42D25/30 , B42D25/425 , B42D25/44
Abstract: 一种防伪膜的制作方法，包括：S1，提供基膜，在所述基膜第一表面涂布第一树脂层，在所述第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构；S2，进一步处理所述基膜第一表面，去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构。一种防伪膜，包括基膜以及位于所述基膜一侧表面的第一树脂层，所述第一树脂层在微图文位置具有镭射效果微图文微结构，而微图文位置以外的位置不具有镭射效果微结构。本发明低成本实现了微图文叠加镭射效果，能使得微图文叠加镭射效果的动态防伪膜得到广泛应用，有效提高了产品的防伪力度。
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公开(公告)号：CN115220905A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110417075.X
申请日：2021-04-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06F9/50
Abstract: 本申请涉及一种直写光刻数据处理系统和方法，属于直写光刻数据处理技术领域，该方法包括：主控单元获取图形文件；根据图形文件进行数据分割，得到多个待处理数据；获取与主控单元通讯相连的多个处理单元的工作状态；并按照工作状态向处理单元分配多个待处理数据；处理单元在获取到待处理数据时，对待处理数据进行处理，得到处理后的数据；处理后的数据是光刻装置能够直接使用的数据；写入装置读取处理单元中的处理后的数据，将处理后的数据写入光刻装置，以使光刻装置按照处理后的数据进行光刻处理；可以解决现有数据处理方式的数据处理效率较低、可靠性较差的问题；可以实现多个处理单元同时处理同一图形文件，提高数据处理效率和可靠性。
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公开(公告)号：CN114637164A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202011476862.3
申请日：2020-12-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开一种潜影防伪器件的制作方法，该方法包括如下步骤：设计防伪图形；根据防伪图形制备版辊，版辊包括本体、设置在本体表面的多个凸起；提供一衬底，所述衬底包括UV胶层、压印在所述UV胶层上的微纳结构；在UV胶层具有微纳结构一侧的表面镀一层金属材料以形成金属层；在所述形成金属层的步骤前利用所述版辊将一层溶液转移至所述UV胶层具有微纳结构一侧的表面，或，在所述形成金属层的步骤后利用所述版辊将所述溶液转移至所述金属层表面；利用清洗剂进行清洗后，得到潜影防伪器件，其中，所述金属层具有多个镂空单元。通过上述方法，提高了良品率，且加工方法简单；同时，还能实现微纳结构与镂空单元结合，实现双重防伪，提高了防伪效果。
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