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公开(公告)号：CN106065475A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610249047.0
申请日：2016-04-20
Applicant: 朴锺模
Inventor： 朴锺模
Abstract: 本发明公开一种蚀刻装置。根据本发明的一实施例的蚀刻装置作为用于蚀刻被处理对象的蚀刻装置，包括：腔室，提供用于执行所述蚀刻的空间；一个以上的喷射部，位于所述腔室内，并对所述被处理对象喷射蚀刻液；多个移送辊轮，用于使所述被处理对象移动；吸入部，用于吸入所述被处理对象的上表面的蚀刻液，其中，所述吸入部包括一个以上的吸入管，所述移送辊轮分别包含旋转轴以及沿着所述旋转轴的长度方向形成的多个支撑部件，所述吸入管分别位于一个移送辊轮的支撑部件与相邻于所述一个移送辊轮的邻接移送辊轮的支撑部件之间的间隔内。
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