公开(公告)号：CN109564389A

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201780044174.X

申请日：2017-05-19

Applicant: 株式会社 ,  尼康 ,  朵妮丝·G·费杰洛 ,  大卫·M·威尔森 ,  史蒂芬·P·雷威克 ,  丹尼尔·杰尼·史密斯 ,  麦可·B·宾纳德

Inventor： 朵妮丝·G·费杰洛 ,  大卫·M·威尔森 ,  史蒂芬·P·雷威克 ,  丹尼尔·杰尼·史密斯 ,  麦可·B·宾纳德

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/18

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70325

Abstract: 被专门配置为在目标工件(156)上印刷一维线的极紫外(EUV)光刻刻划引擎包括：EUV辐射源(114)；图案源(144)，其限定1D图案；照射单元(IU)，其被配置为辐照图案源(144)；以及投影光学(PO)，其被配置为以缩小因子N>1将1D图案光学成像在与1D图案光学共轭的像面上。图案源(144)的辐照可同轴或离轴。在1D图案具有第一空间频率时，其光学图像具有至少为第一空间频率的两倍的第二空间频率。图案源(144)可为平坦的或弯曲的。IU可以包括中继反射器(126)。PO的反射器可以包括多个空间上不同的反射元件(130,134)，其一同形成这样的反射器。该引擎被配置为不允许形成具有基本上等于图案源(144)的1D图案的节距的空间分辨率的任何2D图案的光学图像。