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公开(公告)号：CN109564389A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780044174.X
申请日：2017-05-19
Inventor： 朵妮丝·G·费杰洛 , 大卫·M·威尔森 , 史蒂芬·P·雷威克 , 丹尼尔·杰尼·史密斯 , 麦可·B·宾纳德
CPC classification number: G03F7/70033 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70283 , G03F7/70325
Abstract: 被专门配置为在目标工件(156)上印刷一维线的极紫外(EUV)光刻刻划引擎包括：EUV辐射源(114)；图案源(144)，其限定1D图案；照射单元(IU)，其被配置为辐照图案源(144)；以及投影光学(PO)，其被配置为以缩小因子N>1将1D图案光学成像在与1D图案光学共轭的像面上。图案源(144)的辐照可同轴或离轴。在1D图案具有第一空间频率时，其光学图像具有至少为第一空间频率的两倍的第二空间频率。图案源(144)可为平坦的或弯曲的。IU可以包括中继反射器(126)。PO的反射器可以包括多个空间上不同的反射元件(130,134)，其一同形成这样的反射器。该引擎被配置为不允许形成具有基本上等于图案源(144)的1D图案的节距的空间分辨率的任何2D图案的光学图像。
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公开(公告)号：CN109491208A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811034310.X
申请日：2018-09-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03B21/2033 , G02B27/0916 , G02B27/0955 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/7015 , G03F7/70025 , G03F7/70158
Abstract: 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及制造物品的方法。本发明提供了一种照明光学系统，该照明光学系统通过使用来自光源的光束对待照明的表面进行照明，包括：被配置为透射来自光源的光束的光学元件；以及具有入射表面的构件，透过所述光学元件的光束入射在该入射表面上，其中，所述光学元件具有包括所述光学元件的中央部分的第一区域和在所述第一区域外部的第二区域，并且其中，所述光学元件被形成为使透过所述第一区域的光束的一部分和透过所述第二区域的光束的一部分在所述入射表面上重叠。
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公开(公告)号：CN107407891A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680018673.7
申请日：2016-02-15
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
Abstract: 本发明涉及一种光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，所述组合件包括反射镜布置(110，210，310，410)，其包括多个可相互独立地调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)，以及包含数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成控制数据以及供应电压，以控制各反射镜元件的调节，其中组合件设计为将控制数据和/或供应电流从数据和电压生成单元(120，220，320，420)以电隔离的方式传输到反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)。
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公开(公告)号：CN104541207B
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201380042232.7
申请日：2013-08-02
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.帕特拉
CPC classification number: G03F7/70058 , B82Y10/00 , G03F7/70008 , G03F7/70025 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70566 , G21K1/062 , G21K1/067 , H01S3/0903 , H05G2/00
Abstract: 一种EUV投射光刻投射曝光设备(1)的照明系统，包含光源(2)，其产生具有预定偏振态的EUV照明光的输出光束(3)。照明光学单元(5)沿光轴引导输出光束(3)，从而，掩模母版平面(15)中的照明场(14)由输出光束(3)照明。光源(2)包含电子束供应装置(2a)、EUV产生装置(2c)和偏振设定装置(25)。通过电子束供应装置(2a)为EUV产生装置(2c)供应电子束(2b)。偏振设定装置(25)对电子束(2b)施加可调偏转效应，用于设定输出光束(3)的偏振。因此导致以基于电子束的EUV光源为基础进行操作且提供针对分辨率优化的照明而改进的输出光束的照明系统。
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公开(公告)号：CN104380204B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201380032078.5
申请日：2013-06-20
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 福井达雄
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70075
Abstract: 照明装置，具备：光积分器，具有长方形之第1面、内面、及长方形之第2面，射入该第1面之光透过在该内面之多重反射从该第2面射出；导光部，将来自光源之光导向该光积分器，将沿着该第1面之长边方向以既定间隔排列之多个光束供应至该光积分器；以及成像光学系，在该第2面之短边方向形成与该第2面共轭之共轭面，在该第2面之长边方向之折射力小于在该第2面之短边方向之折射力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103064256B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201210316513.4
申请日：2012-08-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 皮特·C·康切尔斯伯格
CPC classification number: H02K41/03 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70825 , G05B19/402 , G05B2219/42231 , H02K2201/18 , H02P25/06
Abstract: 本发明公开了一种线性电机和包括线性电机的光刻布置。光刻设备包括均匀性校正系统。根据本发明的实施例，提供了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束。照射系统包括定位在一平面处的均匀性校正系统，配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳。所述均匀性校正系统包括配置成可移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出的指状件，以便校正辐射束的相应部分的强度。线性电机致动器布置驱动指状件至它们相应的适合位置，用于补偿非均匀照射。由精确地操纵指状件的承载装置的控制系统来提供控制。
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公开(公告)号：CN104769501A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380057059.8
申请日：2013-10-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70033 , G01B11/14 , G01M11/005 , G02B26/0833 , G02B27/62 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7085
Abstract: 一种光学系统，包括：反射镜系统(19)，包括多个反射镜元件(23)，其中，所述反射镜元件的取向可以独立于彼此设定；以及监视系统(52)，构造成确定所述反射镜元件(23)的取向。所述监视系统包括：监视辐射源(57)，构造成以具有多个不同波长的光(55)照明所述多个反射镜元件；监视透镜(59)，具有物平面(61)、像平面(63)以及布置在所述物平面和所述像平面之间的光瞳平面(77)；滤色器(78)，在不同位置处具有彼此不同的依赖于波长的透射属性；以及空间解析和波长解析光检测器(67)，具有检测区(65)；其中，所述反射镜元件(23)布置在所述监视透镜(59)的物平面(61)的区域中；其中，所述光检测器(67)的检测区(65)布置在所述监视透镜(59)的像平面(63)的区域中；以及其中，所述滤色器(78)布置在所述监视透镜(59)的光瞳平面(77)的区域中。
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公开(公告)号：CN104718499A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201280076413.7
申请日：2012-10-27
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.帕特拉
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B3/0062 , G02B26/0816 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G03F7/70066 , G03F7/7015
Abstract: 一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含光学积分器(70)，该光学积分器包括第一光栅板(74)及第二光栅板(76)。第一光栅板(74)包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列，第二光栅板(76)包含沿着参考方向(X)具有第二焦距f2的第二透镜(84)的阵列。第一透镜的顶点及第二透镜的顶点隔开大于第二焦距f2的距离d，使得d>1.01·f2。这确保激光指向或光学积分器的照明的另一瞬时变化不会不利地影响平面(90)中由光学积分器(70)照明的空间辐照分布。
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公开(公告)号：CN102612667B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201080051846.8
申请日：2010-09-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70425 , G02B26/0833 , G02B27/0068 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191
Abstract: 在光刻设备中，使用场反射镜设置照射模式，场反射镜包括多个可移动琢面以引导辐射至光瞳琢面反射镜上的可选定位置。在一场琢面反射镜有缺陷且不能被设置到期望位置的情形中，可移动琢面反射镜中的另一个被设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解有缺陷的琢面反射镜的有害影响。
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公开(公告)号：CN102301281B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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