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公开(公告)号：CN114730279B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202080079163.7
申请日：2020-11-20
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 马修·C·普特曼 , 瓦迪姆·潘斯基 , 达马斯·利莫格 , 安德鲁·桑德斯特罗姆
Abstract: 本文公开了一种制造系统。制造系统包括一个或更多个工位、监控平台和控制模块。所述一个或更多个工位中的每个工位被配置为执行组件的多步骤制造过程中的至少一个步骤。监控平台被配置为监控所述组件在整个所述多步骤制造过程中的进展。控制模块被配置为检测对所述制造系统的网络攻击。所述控制模块被配置为执行操作。操作包括接收所述一个或更多个工位中的第一工位的控制值。操作进一步包括使用一种或更多种机器学习算法基于所述第一工位的所述控制值确定存在网络攻击。操作进一步包括生成警报以终止所述组件的处理。在一些实施例中，操作还包括改正由网络攻击引起的误差。
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公开(公告)号：CN117501306A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280042952.2
申请日：2022-07-14
Applicant: 纳米电子成像有限公司
IPC: G06T5/50
Abstract: 一种检查设备，包括样品载物台、至少三个成像装置、一组或多组灯以及控制系统，样品载物台被配置成保持样品，至少三个成像装置以三角形阵列布置、定位在样品载物台上方，至少三个成像装置中的每个成像装置被配置成捕获样品的图像，一组或多组灯定位在样品载物台与至少三个成像装置之间，控制系统与至少三个成像装置通信。
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公开(公告)号：CN115943428A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202180043341.5
申请日：2021-06-18
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 安德鲁·桑德斯特罗姆 , 伊-索尔·金 , 达马斯·利莫格 , 瓦迪姆·潘斯基 , 马修·C·普特曼
IPC: G06T7/00 , G05B19/00 , G05B19/18 , G06N3/0442 , G06N3/08 , G06V10/82 , G06V10/764
Abstract: 本文公开了一种制造系统。制造系统包括一个或更多个站、监控平台和控制模块。一个或更多个站中的每个站被配置为执行部件的多步骤制造过程中的至少一个步骤。监控平台被配置为监控在整个多步骤制造过程中部件的进度。控制模块被配置为动态调整多步骤制造过程的每个步骤的加工参数，以实现部件的期望最终质量度量。
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公开(公告)号：CN115302780A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210941812.0
申请日：2019-03-29
Applicant: 纳米电子成像有限公司
IPC: B29C64/386 , B29C64/393 , G06N20/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 使用人工智能的增材制造系统可以从生成的打印层的地形图像中识别对象的打印层中的异常。增材制造系统还可以使用人工智能来确定所识别的异常与一个或更多个打印参数之间的相关性，并自适应地调整一个或更多个打印参数。增材制造系统还可以使用人工智能来优化一个或更多个打印参数，以实现所期望的机械、光学和/或电性能。
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公开(公告)号：CN115136080A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180014828.0
申请日：2021-02-26
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 马修·C·普特曼 , 约翰·B·普特曼 , 瓦迪姆·潘斯基 , 安德鲁·桑德斯特罗姆 , 詹姆士·威廉姆斯三世
IPC: G05B13/04 , G05B19/04 , G06F21/56 , G06F21/57 , G06F9/455 , G06F30/20 , G06F30/27 , G06N20/00 , G06N3/08 , G06N3/063 , G06N3/04
Abstract: 耦接到接口的控制器仿真器向过程模拟器和深度学习过程提供一个或更多个控制信号，接口将控制器仿真器暴露于来自外部源的输入。作为响应，过程模拟器模拟响应数据，该响应数据被提供给深度学习处理器。深度学习处理器为一个或更多个控制信号生成预期响应数据和预期行为模式数据，以及为所模拟的响应数据生成实际行为模式数据。执行以下中的至少一项的比较：所模拟的响应数据与预期响应数据、以及实际行为模式数据与预期行为模式数据，以确定是否检测到异常活动。由于检测到异常活动，则执行一个或更多个操作以解决异常活动。
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公开(公告)号：CN115053234A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202180012365.4
申请日：2021-02-03
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 马修·C·普特曼 , 瓦迪姆·潘斯基 , 塔纳蓬·纳·纳荣 , 丹尼斯·Y·沙鲁霍夫 , 托尼斯拉夫·伊万诺夫
Abstract: 本文公开了一种成像系统。成像系统包括成像装置和计算系统。成像装置包括相对于被配置为支撑样本的台定位在多个位置和多个角度处的多个光源。成像装置被配置为捕获样本的表面的多个图像。计算系统与成像装置通信。计算系统被配置为通过以下方式生成样本的表面的3D重建：从成像装置接收样本的表面的多个图像，通过成像装置经由深度学习模型生成基于多个图像的样本的表面的高度图，以及基于由深度学习模型生成的高度图输出样本的表面的3D重建。
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公开(公告)号：CN115039040A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202180011676.9
申请日：2021-02-19
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 马修·C·普特曼 , 瓦迪姆·潘斯基 , 达马斯·W·利摩日 , 萨德格·努里·古什基 , 阿什温·拉加夫·尼马莱斯瓦兰 , 法比安·霍夫
IPC: G05B13/02 , G05B19/4099 , G06N3/08
Abstract: 本文公开了一种制造系统。制造系统包括一个或更多个站、监控平台和控制模块。一个或更多个站中的每一个站配置为执行在部件的多步骤制造过程中的至少一个步骤。监控平台配置为监控部件在整个多步骤制造过程中的进度。控制模块配置为动态调整多步骤制造过程的每一个步骤的加工参数，以实现部件的期望最终质量度量标准。
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公开(公告)号：CN112118949B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN201980032570.X
申请日：2019-03-29
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Abstract: 使用人工智能的增材制造系统可以从生成的打印层的地形图像中识别对象的打印层中的异常。增材制造系统还可以使用人工智能来确定所识别的异常与一个或更多个打印参数之间的相关性，并自适应地调整一个或更多个打印参数。增材制造系统还可以使用人工智能来优化一个或更多个打印参数，以实现所期望的机械、光学和/或电性能。
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公开(公告)号：CN114585981A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202080073852.7
申请日：2020-11-06
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 安德鲁·桑德斯特罗姆 , 达马斯·利莫格 , 恩索尔·金 , 瓦迪姆·潘斯基 , 马修·C·普特曼
IPC: G05B19/418 , G05B19/19 , G05B19/406 , G06N20/20 , G06Q10/06
Abstract: 本文公开了一种制造系统。该制造系统包括一个或更多个站、监测平台、以及控制模块。一个或更多个站中的每个站被配置为在部件的多步骤制造过程中执行至少一个步骤。监测平台被配置为监测部件在整个多步骤制造过程中的进展。控制模块被配置为动态地调整多步骤制造过程的每个步骤的处理参数，以实现部件的期望的最终质量度量。
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公开(公告)号：CN114503134A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080071010.8
申请日：2020-09-23
Applicant: 纳米电子成像有限公司
Inventor： 马修·C·普特曼 , 约翰·B·普特曼 , 瓦迪姆·潘斯基 , 达马斯·利莫格 , 安德鲁·桑德斯特罗姆 , 詹姆士·威廉姆斯三世
Abstract: 一种包括深度学习处理器的系统，其接收来自工厂的工序、设备和控制(process,equipment and control,P/E/C)系统中的一个或更多个系统在制造过程期间的一个或更多个控制信号。处理器为控制信号生成预期响应数据和预期行为模式数据。处理器接收来自工厂的P/E/C系统中的一个或更多个系统的生产响应数据并为生产响应数据生成生产行为模式数据。该工序将以下至少一项进行比较以对异常活动进行检测：生产响应数据和预期响应数据、生产行为模式数据和预期行为模式数据。作为检测到异常活动的结果，处理器执行一个或更多个操作以提供通知或使得工厂的P/E/C系统中的一个或更多个系统解决异常活动。
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