公开(公告)号：CN102232014A

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200980148111.4

申请日：2009-11-13

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  AJI株式会社

Inventor： 山木繁 ,  宫田英雄 ,  御手洗信幸 ,  石井伸晃 ,  室伏克己 ,  吉田邦夫

IPC: B29C43/02 ,  B29C39/02 ,  B29C59/02 ,  C08F220/26 ,  C08F290/00 ,  C08G77/20 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  B29C33/40 ,  B29K33/04 ,  B29L11/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供与现有技术相比，可以以更高精度形成透镜等造形物的造形方法。通过反复多次进行转印工序来形成透镜阵列、纳米压印用的模具等造形物，所述转印工序包括：使包含具有聚合性官能团的化合物和聚合引发剂的光固化性组合物与形成了形状同非球面形状透镜部(312)相同的转印形状部的转印体(62)彼此接触，或与形成了形状同上述非球面形状透镜部(312)相反的转印形状部的转印体(62)彼此接触，从而使光固化性组合物模仿转印体(62)的转印形状而变形的变形工序；通过用光照射装置(60)照射光使变形了的光固化性组合物的至少变形了的部分固化的固化工序；以及，使固化了的光固化性组合物与转印部件分离开的分离工序。

公开(公告)号：CN102232014B

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN200980148111.4

申请日：2009-11-13

Applicant: AJI株式会社

Inventor： 山木繁 ,  宫田英雄 ,  御手洗信幸 ,  石井伸晃 ,  室伏克己 ,  吉田邦夫

IPC: B29C43/02 ,  B29C39/02 ,  B29C59/02 ,  C08F220/26 ,  C08F290/00 ,  C08G77/20 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  B29C33/40 ,  B29K33/04 ,  B29L11/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供与现有技术相比，可以以更高精度形成透镜等造形物的造形方法。通过反复多次进行转印工序来形成透镜阵列、纳米压印用的模具等造形物，所述转印工序包括：使包含具有聚合性官能团的化合物和聚合引发剂的光固化性组合物与形成了形状同非球面形状透镜部(312)相同的转印形状部的转印体(62)彼此接触，或与形成了形状同上述非球面形状透镜部(312)相反的转印形状部的转印体(62)彼此接触，从而使光固化性组合物模仿转印体(62)的转印形状而变形的变形工序；通过用光照射装置(60)照射光使变形了的光固化性组合物的至少变形了的部分固化的固化工序；以及，使固化了的光固化性组合物与转印部件分离开的分离工序。