公开(公告)号：CN1290688A

公开(公告)日：2001-04-11

申请号：CN00128886.5

申请日：2000-09-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 深田功 ,  石井圣一 ,  景山弘春 ,  水谷祐喜

IPC: C07C211/19 ,  C07C209/48

CPC classification number: C07C209/48 ,  C07C2602/42 ,  C07C211/38

Abstract: 公开了一种制备降冰片烷二亚甲基胺的方法,其中,使降冰片烷二腈,采用含有锰等的阮内钴催化剂,在每摩尔降冰片烷二腈0.1～1.5mol水的存在下,进行氢化反应。

公开(公告)号：CN1264806C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN00128886.5

申请日：2000-09-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 深田功 ,  石井圣一 ,  景山弘春 ,  水谷祐喜

IPC: C07C211/19 ,  C07C209/48

CPC classification number: C07C209/48 ,  C07C2602/42 ,  C07C211/38

Abstract: 公开了一种制备降冰片烷二亚甲基胺的方法，其中，使降冰片烷二腈，采用含有锰等的阮内钴催化剂，在每摩尔降冰片烷二腈0.1～1.5mol水的存在下，进行氢化反应。

公开(公告)号：CN1261568C

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN200410038399.9

申请日：2004-05-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 上原与志一 ,  末广雅子 ,  福田伟志 ,  深田功

IPC: C12N9/96 ,  C12P13/02

CPC classification number: C12P13/02 ,  C12N9/88 ,  C12Y402/01084

Abstract: 本发明是通过在不伴有细胞增殖的条件下使含有腈水合酶的细胞或该细胞的处理物与氧化剂接触从而保持或提高腈水合酶活性的方法、以及使用已与氧化剂接触的该细胞或该细胞的处理物由腈化合物制造酰胺化合物的方法。根据本发明，不仅能保持腈水合酶的活性，还能提高一旦降低了的腈水合酶活性，因此能有效地由腈化合物制造酰胺化合物。

公开(公告)号：CN1572871A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410038399.9

申请日：2004-05-27

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 上原与志一 ,  末广雅子 ,  福田伟志 ,  深田功

IPC: C12N9/96 ,  C12P13/02

CPC classification number: C12P13/02 ,  C12N9/88 ,  C12Y402/01084

Abstract: 本发明是通过在不伴有细胞增殖的条件下使含有腈水合酶的细胞或该细胞的处理物与氧化剂接触从而保持或提高腈水合酶活性的方法、以及使用已与氧化剂接触的该细胞或该细胞的处理物由腈化合物制造酰胺化合物的方法。根据本发明，不仅能保持腈水合酶的活性，还能提高一旦降低了的腈水合酶活性，因此能有效地由腈化合物制造酰胺化合物。

公开(公告)号：CN1310879C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200410057234.6

申请日：2004-08-23

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 长谷山龙二 ,  深田功 ,  松浦阳 ,  水谷佑喜 ,  小林诚一

IPC: C07C265/16 ,  C07C263/10 ,  C07C211/38 ,  C08G18/02 ,  G02B1/04

CPC classification number: G02B1/04 ,  C07C211/38 ,  C07C265/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/44 ,  C07C2602/46 ,  C07C2603/66 ,  C08G18/3876 ,  C08G18/758 ,  C08L75/04

Abstract: 本发明提供了具有高耐热性、阿贝数和折射率的各种性能平衡良好的光学材料，该光学材料是由通式(1)表示的化合物。式中，k表示0～2的整数，n表示0～1的整数，但k和n不同时为0，k＝0时，表示-(CH2)k-不存在。

公开(公告)号：CN1611488A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410057234.6

申请日：2004-08-23

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 长谷山龙二 ,  深田功 ,  松浦阳 ,  水谷佑喜 ,  小林诚一

IPC: C07C265/16 ,  C07C263/10 ,  C07C211/38 ,  C08G18/02 ,  G02B1/04

CPC classification number: G02B1/04 ,  C07C211/38 ,  C07C265/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/44 ,  C07C2602/46 ,  C07C2603/66 ,  C08G18/3876 ,  C08G18/758 ,  C08L75/04

Abstract: 本发明提供了具有高耐热性、阿贝数和折射率的各种性能平衡良好的光学材料，该光学材料是由通式(1)表示的化合物。式中，k表示0～2的整数，n表示0～1的整数，但k和n不同时为0，k＝0时，表示－(CH2)k－不存在。