公开(公告)号：CN103890127B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201280050088.7

申请日：2012-10-12

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 佐藤龙一 ,  丸山阳兵 ,  小池淳

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  B24B37/04 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/02527 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/2003

Abstract: 本发明提供一种即使对碳化硅和氮化镓等高硬度材料也可以高研磨速度进行研磨的研磨剂浆料。本发明的研磨剂浆料由含有氧化锰粒子和锰酸根离子的浆料构成，用于研磨以莫氏硬度计硬度在8以上的高硬度材料。本发明的浆料中，氧化锰粒子优选在1.0质量％以上，氧化锰优选为二氧化锰，锰酸根离子优选为高锰酸根离子。如果采用本发明的研磨剂浆料，则即使是碳化硅和氮化镓等高硬度的难以切削的材料也可高速地平滑研磨。

公开(公告)号：CN103890127A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201280050088.7

申请日：2012-10-12

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 佐藤龙一 ,  丸山阳兵 ,  小池淳

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/02527 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/2003

Abstract: 本发明提供一种即使对碳化硅和氮化镓等高硬度材料也可以高研磨速度进行研磨的研磨剂浆料。本发明的研磨剂浆料由含有氧化锰粒子和锰酸根离子的浆料构成，用于研磨以莫氏硬度计硬度在8以上的高硬度材料。本发明的浆料中，氧化锰粒子优选在1.0质量％以上，氧化锰优选为二氧化锰，锰酸根离子优选为高锰酸根离子。如果采用本发明的研磨剂浆料，则即使是碳化硅和氮化镓等高硬度的难以切削的材料也可高速地平滑研磨。