公开(公告)号：CN119684351A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202411326830.3

申请日：2024-09-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全震洹 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  李善英 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  蔡贞厦 ,  河旻永

IPC: C07F7/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供有机金属化合物、包括其的抗蚀剂组合物和使用所述抗蚀剂组合物的图案形成方法，所述有机金属化合物由式1‑1至1‑4之一表示，式1‑1至1‑4中的M11、Q11至Q14、b11至b14、R11至R14、Y11至Y13、和X11至X13如说明书中所描述的。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119937241A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411480630.3

申请日：2024-10-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李善英 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  李智娟 ,  林圭铉 ,  全震洹 ,  蔡贞厦 ,  河旻永

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由式1‑1至1‑4之一表示的有机金属化合物和由式2表示的添加剂，其中式1‑1至1‑4和2中的M11、L11至L14、a11至a14、R11至R14、b11至b14、Y11至Y13、X11至X13、Y21、Y22、L21、和a21描述于说明书中。#imgabs0#式2#imgabs1#

公开(公告)号：CN117430743A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310286918.6

申请日：2023-03-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  蔡贞厦 ,  崔诚原 ,  河旻永

IPC: C08F220/18 ,  C08F8/34 ,  C08F8/00 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供聚合物、包括其的光致抗蚀剂组合物、和使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的重复单元，其中式A111‑和中的B11R+11的细节提供、L11、a11、在本说明书中。式1