聚(酰亚胺-酰胺)共聚物、包含其的制品、其制备方法和包括该制品的电子器件

    公开(公告)号:CN106957427B

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN201610890687.X

    申请日:2016-10-12

    Abstract: 公开聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物、包含其的制品、其制备方法和包括该制品的电子器件。所述聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物包括作为第一二胺和二酐的反应产物的酰亚胺结构单元、以及作为第二二胺和二酰卤的反应产物的酰胺结构单元,第一二胺和第二二胺各自包括2,2'‑双‑三氟甲基‑4,4'‑联苯二胺(TFDB),并且第一二胺和第二二胺的至少一种进一步包括由化学式1表示的化合物,二酐包括3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酐(BPDA)和4,4'‑六氟异丙叉二邻苯二甲酸酐(6FDA),和二酰卤包括对苯二甲酰氯(TPCl),并且基于第一二胺和第二二胺的总量,以小于或等于约10摩尔%的量包括由化学式1表示的化合物。提供包括所述聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物的膜和电子器件。在化学式1中,A与详细的说明书中描述的相同。(化学式1)NH2‑A‑NH2。

    聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物、包含其的制品、其制备方法和包括该制品的电子器件

    公开(公告)号:CN106957427A

    公开(公告)日:2017-07-18

    申请号:CN201610890687.X

    申请日:2016-10-12

    Abstract: 公开聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物、包含其的制品、其制备方法和包括该制品的电子器件。所述聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物包括作为第一二胺和二酐的反应产物的酰亚胺结构单元、以及作为第二二胺和二酰卤的反应产物的酰胺结构单元,第一二胺和第二二胺各自包括2,2'‑双‑三氟甲基‑4,4'‑联苯二胺(TFDB),并且第一二胺和第二二胺的至少一种进一步包括由化学式1表示的化合物,二酐包括3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酐(BPDA)和4,4'‑六氟异丙叉二邻苯二甲酸酐(6FDA),和二酰卤包括对苯二甲酰氯(TPCl),并且基于第一二胺和第二二胺的总量,以小于或等于约10摩尔%的量包括由化学式1表示的化合物。提供包括所述聚(酰亚胺‑酰胺)共聚物的膜和电子器件。在化学式1中,A与详细的说明书中描述的相同。(化学式1)NH2‑A‑NH2。

    包括光敏性聚合物的非离子型非化学放大光致抗蚀剂组合物和制造集成电路器件的方法

    公开(公告)号:CN118625595A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410229613.6

    申请日:2024-02-29

    Abstract: 本发明涉及包括光敏性聚合物的非离子型非化学放大光致抗蚀剂组合物和制造集成电路器件的方法。光致抗蚀剂组合物包括包含光敏性聚合物的非离子型非化学放大光致抗蚀剂组合物,光敏性聚合物包括具有极性反转基团的第一重复单元和具有敏化基团的第二重复单元。制造集成电路器件的方法包括:通过使用光致抗蚀剂组合物在特征层上形成光致抗蚀剂膜,将作为光致抗蚀剂膜的一部分的第一区域曝光以在第一区域中由第二重复单元产生二次电子并且通过使用第一区域中的二次电子改变第一重复单元的极性以反转第一区域的极性,通过使用显影剂除去光致抗蚀剂膜的未经曝光的区域以形成包括第一区域的光致抗蚀剂图案,和通过使用光致抗蚀剂图案处理特征层。

Patent Agency Ranking