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公开(公告)号:CN107665859B
公开(公告)日:2023-06-27
申请号:CN201710607173.3
申请日:2017-07-24
Applicant: 三星电子株式会社 , 里兰斯坦福初级大学理事会
IPC: H01L21/768 , H01L21/762 , H01L21/28
Abstract: 本公开提供了包括电隔离图案的半导体器件及其制造方法。一种形成复合电介质材料的方法可以通过执行第一沉积循环以形成第一电介质材料以及执行第二沉积循环以在第一电介质材料上形成第二电介质材料来提供,其中第一电介质材料和第二电介质材料包括从由过渡金属氮化物、过渡金属氧化物、过渡金属碳化物、过渡金属硅化物、后过渡金属氮化物、后过渡金属氧化物、后过渡金属碳化物、后过渡金属硅化物、准金属氮化物、准金属氧化物和准金属碳化物组成的列表中选择的不同的电介质材料。
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公开(公告)号:CN107665859A
公开(公告)日:2018-02-06
申请号:CN201710607173.3
申请日:2017-07-24
Applicant: 三星电子株式会社 , 里兰斯坦福初级大学理事会
IPC: H01L21/768 , H01L21/762 , H01L21/28
CPC classification number: H01L23/5225 , H01L21/76816 , H01L21/76832 , H01L21/76877 , H01L23/5226 , H01L23/5283 , H01L23/53257 , H01L23/53295 , H01L23/535 , H01L27/10823 , H01L27/10876 , H01L27/10885 , H01L21/76802 , H01L21/28008 , H01L21/762
Abstract: 本公开提供了包括电隔离图案的半导体器件及其制造方法。一种形成复合电介质材料的方法可以通过执行第一沉积循环以形成第一电介质材料以及执行第二沉积循环以在第一电介质材料上形成第二电介质材料来提供,其中第一电介质材料和第二电介质材料包括从由过渡金属氮化物、过渡金属氧化物、过渡金属碳化物、过渡金属硅化物、后过渡金属氮化物、后过渡金属氧化物、后过渡金属碳化物、后过渡金属硅化物、准金属氮化物、准金属氧化物和准金属碳化物组成的列表中选择的不同的电介质材料。
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公开(公告)号:CN117930926A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202311374951.0
申请日:2023-10-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G05F1/56
Abstract: 一种低压差(LDO)稳压器,其被配置为生成第一输出电压至第n输出电压,其中,n是大于或等于2的自然数,并且第一输出电压至第n输出电压中的每一者对应于参考电压。该LDO稳压器包括:放大器,该放大器被配置为基于参考电压和第一输出电压至第n输出电压中的第一输出电压来生成误差电压;修整控制电路,该修整控制电路被配置为基于第一输出电压至第n输出电压来生成第一修整信号至第n‑1修整信号;以及输出缓冲器电路,该输出缓冲器电路被配置为基于误差电压和第一修整信号至第n‑1修整信号来生成第一输出电压至第n输出电压。
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