公开(公告)号：CN119668025A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411306733.8

申请日：2024-09-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曹雅罗 ,  林昌模 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  李恩受 ,  崔有廷 ,  郑盛宇 ,  金圣振

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括：包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合的聚合物；具有约0到约60kcal/mol键解离能(bond dissociation energy，BDE)的自由基引发剂；以及溶剂。

公开(公告)号：CN119882348A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411482622.2

申请日：2024-10-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李恩受 ,  白载烈 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇 ,  林昌模 ,  权纯亨

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。该抗蚀剂底层组合物包括：包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合的聚合物；由化学式4至化学式6中选择的一者或多者表示的化合物；以及溶剂。化学式1到化学式6的定义如说明书中所述。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119668032A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411313526.5

申请日：2024-09-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄丙奎 ,  林昌模 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  李恩受 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇

IPC: G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂底层组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合。化学式1到化学式3的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#化学式3#imgabs2#