公开(公告)号：CN113396364A

公开(公告)日：2021-09-14

申请号：CN202080012809.X

申请日：2020-03-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  白载烈

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

公开(公告)号：CN110579943B

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN201910501950.5

申请日：2019-06-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  周范俊 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，所述抗蚀剂底层组合物包含具有衍生于异氰脲酸酯衍生物的结构单元的聚合物以及溶剂。

公开(公告)号：CN115685674A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210845633.7

申请日：2022-07-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  南宫烂 ,  朴贤 ,  宋大锡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，所述抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，包含主链、侧链或包含在环中包含两个或大于两个氮原子的杂环的主链和侧链；化合物，包含由化学式1表示的部分；以及溶剂；以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法：化学式1的定义与实施方式中所描述的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN108388079B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201810067086.8

申请日：2018-01-24

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  周范俊 ,  崔有廷 ,  韩权愚

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/115

Abstract: 本申请公开一种抗蚀剂垫层组成物，其包含包括由化学式1和化学式2表示的部分的聚合物和溶剂，且本申请另公开一种使用所述抗蚀剂垫层组成物形成图案的方法。化学式1和化学式2的定义与实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN113204170A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110115902.X

申请日：2021-01-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂，以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。在化学式1中，每一个取代基与详细描述中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN113138532A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。

公开(公告)号：CN119882348A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411482622.2

申请日：2024-10-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李恩受 ,  白载烈 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇 ,  林昌模 ,  权纯亨

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。该抗蚀剂底层组合物包括：包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合的聚合物；由化学式4至化学式6中选择的一者或多者表示的化合物；以及溶剂。化学式1到化学式6的定义如说明书中所述。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119668032A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411313526.5

申请日：2024-09-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄丙奎 ,  林昌模 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  李恩受 ,  金圣振 ,  曹雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇

IPC: G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂底层组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合。化学式1到化学式3的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#化学式3#imgabs2#

公开(公告)号：CN110879508B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN201910837249.0

申请日：2019-09-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  裵信孝 ,  崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂垫层组合物和使用抗蚀剂垫层组合物形成图案的方法，所述组合物包含：聚合物，包含由化学式1‑1表示的第一部分和由化学式1‑2表示的第二部分中的至少一者；热酸产生剂，包含由酸衍生的阴离子和衍生自pKa大于或等于7的碱的阳离子构成的盐；以及溶剂：化学式1‑1到化学式1‑2的定义与具体实施方式中所描述的定义相同。[化学式1‑1][化学式1‑2]

公开(公告)号：CN116057471A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202180054499.2

申请日：2021-11-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  千玟基

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明有关于一种光阻底层组成物以及使用所述光阻底层组成物形成图案的方法，所述光阻底层组成物包括：具有在环中包含两个或更多个氮原子的环骨架的聚合物、由化学式1表示的化合物及溶剂。化学式1的定义如说明书中所述。[化学式1]