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公开(公告)号:CN109684707A
公开(公告)日:2019-04-26
申请号:CN201811553751.0
申请日:2018-12-19
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F17/50
CPC classification number: G06F17/5072 , G06F17/5081
Abstract: 本发明提供一种标准单元库版图设计规则验证方法,包括:提取标准单元库的路径信息;查找标准单元库中所有标准单元,并产生准备列表文件;提供设计规则配置文件,并制定设计规则检查文件;制定标准单元边界设计规则,以及对应的标准单元边界设计规则检查文件;根据准备列表文件、设计规则检查文件和标准单元边界设计规则检查文件,自动生成单元版图设计规则检查文件;查找标准单元以及与该标准单元对应的单元版图设计规则检查文件并执行程序命令使其对每个标准单元进行验证;产生标准单元结果文件并生成标准单元库设计规则检查报告。该方法规避标准单元拼接后的版图违反设计规则。从而实现对标准单元库的快速、高效、准确的设计规则检查验证。
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公开(公告)号:CN111753490A
公开(公告)日:2020-10-09
申请号:CN202010576086.8
申请日:2020-06-22
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F30/392 , G06F30/398
Abstract: 本发明公开了一种金属线版图设计规则检查方法,首先获取所述金属线的电压信息,并判断待检查的两个所述金属线间是否存在同序识别层。若存在则利用同序电压差计算方法计算待检查的两个所述金属线间的电压差,若不存在则利用异序电压差计算方法计算待检查的两个所述金属线间的电压差,最后利用所述金属线版图的设计规则中相应电压差对应相应间距要求判断待检查的两个所述金属线的间距是否符合要求,从而实现待检查的两个所述金属线之间的设计规则检查。无需人工计算电压差值,极大地优化了代码用量并以高效和准确的方式自动计算电压差,实现不同金属线上图形间距的检查与限定。
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公开(公告)号:CN108830003A
公开(公告)日:2018-11-16
申请号:CN201810672248.0
申请日:2018-06-26
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明提供了一种集成电路版图的检查方法,包括:设置通孔密度检查文件;获取待测区域集合;计算所述待测区域的通孔密度;以及对所述待测区域的通孔密度进行检查;若所述待测区域的通孔密度大于等于所述预定值,则通过,若所述待测区域的通孔密度小于所述预定值,则对所述待测区域进行标记。本发明所提供方法将通孔密度的检查转化为一种特殊的版图设计规则检查,通过设计规则检查文件来实现对通孔密度的自动化检查,可实现通孔漏打或少打的准确定位,检查覆盖面全,可快速高效地对不符合设计规则的区域进行提示性标记,便于版图设计人员对版图进行更改,提高检查效率节约成本。
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公开(公告)号:CN113095036B
公开(公告)日:2024-03-22
申请号:CN202110342820.9
申请日:2021-03-30
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F30/398
Abstract: 本发明提供了一种三维结构的天线效应的判断方法,包括:识别待计算天线效应的有效栅极;计算所述有效栅极的栅氧理论面积和所述有效栅极的保护二极管的理论面积;对所述有效栅极的栅氧理论面积及所述有效栅极的保护二极管理论面积进行近似处理,以获得栅氧近似面积和保护二极管近似面积;计算导体面积与所述栅氧近似面积的比值,和/或计算导体面积与所述栅氧近似面积和所述保护二极管近似面积两者之和的比值,并与天线比率阈值进行比较,以选出违反天线效应的图形。该方法可避免无关风险报错,并实现版图资源合理化应用。
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公开(公告)号:CN113095036A
公开(公告)日:2021-07-09
申请号:CN202110342820.9
申请日:2021-03-30
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F30/398
Abstract: 本发明提供了一种三维结构的天线效应的判断方法,包括:识别待计算天线效应的有效栅极;计算所述有效栅极的栅氧理论面积和所述有效栅极的保护二极管的理论面积;对所述有效栅极的栅氧理论面积及所述有效栅极的保护二极管理论面积进行近似处理,以获得栅氧近似面积和保护二极管近似面积;计算导体面积与所述栅氧近似面积的比值,和/或计算导体面积与所述栅氧近似面积和所述保护二极管近似面积两者之和的比值,并与天线比率阈值进行比较,以选出违反天线效应的图形。该方法可避免无关风险报错,并实现版图资源合理化应用。
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公开(公告)号:CN111753490B
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202010576086.8
申请日:2020-06-22
Applicant: 上海华力微电子有限公司
IPC: G06F30/392 , G06F30/398
Abstract: 本发明公开了一种金属线版图设计规则检查方法,首先获取所述金属线的电压信息,并判断待检查的两个所述金属线间是否存在同序识别层。若存在则利用同序电压差计算方法计算待检查的两个所述金属线间的电压差,若不存在则利用异序电压差计算方法计算待检查的两个所述金属线间的电压差,最后利用所述金属线版图的设计规则中相应电压差对应相应间距要求判断待检查的两个所述金属线的间距是否符合要求,从而实现待检查的两个所述金属线之间的设计规则检查。无需人工计算电压差值,极大地优化了代码用量并以高效和准确的方式自动计算电压差,实现不同金属线上图形间距的检查与限定。
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