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公开(公告)号：CN103666282A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310678098.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/04
Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物。本发明的抛光液含有金属离子、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液不含磨粒，并且同时含有金属离子和氧化剂。本发明的无磨粒抛光液组成及其重量百分比如下：金属离子添加剂0.2~1.2%；氧化剂1~6%；分散剂1.0~4.0%；表面活性剂1.0~4.0%；去离子水余量。采用本发明提供的无磨粒抛光液对硬盘基片进行抛光，可提高基片的去除速率，有效降低基片表面的粗糙度，减轻表面抛光微缺陷状况。
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公开(公告)号：CN104497888A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410568609.9
申请日：2014-10-22
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/18
CPC classification number: C09G1/18
Abstract: 本发明公开了一种含引发剂的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.01~0.12%偶氮类引发剂、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐和余量的去离子水。本发明抛光液制备方法为：按抛光液组分称取各原料，在搅拌作用下，依次将引发剂、分散剂和表面活性剂加入到去离子水中，待搅拌溶解后，在不断搅拌下加入氧化剂，得到透明液，即得到抛光液组合物。本发明抛光液不含颗粒，同时含有引发剂，特别适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，使用该抛光液抛后可提高基片去除速率，减少表面微观划痕、凹陷，提高硬盘基片表面平整度。
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公开(公告)号：CN104479565A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201410565995.6
申请日：2014-10-22
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/18
CPC classification number: C09G1/16
Abstract: 本发明公开了一种含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.003~1.78%还原剂有机胺类化合物、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐和余量的去离子水。本发明抛光液制备方法为：按抛光液组分称取各原料，在搅拌作用下，依次将还原剂、分散剂和表面活性剂加入到去离子水中，待搅拌溶解后，在不断搅拌下加入氧化剂，得到透明液，即得到抛光液组合物。本发明抛光液不含颗粒，同时含有氧化还原体系，特别适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，使用该抛光液抛后可提高基片去除速率，减少表面微观划痕、凹陷，提高硬盘基片表面平整度。
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公开(公告)号：CN103666282B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201310678098.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 上海大学
IPC: H01L21/312
Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物。本发明的抛光液含有金属离子、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液不含磨粒，并且同时含有金属离子和氧化剂。本发明的无磨粒抛光液组成及其重量百分比如下：金属离子添加剂0.2~1.2%；氧化剂1~6%；分散剂1.0~4.0%；表面活性剂1.0~4.0%；去离子水余量。采用本发明提供的无磨粒抛光液对硬盘基片进行抛光，可提高基片的去除速率,有效降低基片表面的粗糙度，减轻表面抛光微缺陷状况。
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