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公开(公告)号:CN119918485A
公开(公告)日:2025-05-02
申请号:CN202411800713.6
申请日:2024-12-09
Applicant: 上海微波技术研究所(中国电子科技集团公司第五十研究所)
IPC: G06F30/367 , G06F119/08
Abstract: 本发明提供了一种深低温晶体管模型的设计方法、系统及介质,其中方法包括步骤S1,通过器件设计,确定晶体管尺寸;步骤S2,版图实现:基于晶体管尺寸,绘制各晶体管对应的MOS、CV、LOD、WPE和MIS测试结构;步骤S3,测试提参:基于测试结构,对晶体管在深低温进行测试,获得各类测试数据,深低温为10K以下;步骤S4,模型建立:基于BSIM4模型和各类测试数据,对深低温晶体管模型进行设计,并用相匹配的HSPICE仿真器,将建模过程可视化。本发明提出了一种大规模芯片扫描测试方法,通过获得芯片的统计特性进行更精准地建模。同时,测试方法涵盖了CV测试、IV测试、失配测试、LOD测试、WPE测试和噪声测试,保证了本发明建模数据的可靠性和完整性。